[发明专利]改善磁控溅射气场均匀性装置及其操作方法

权利要求书

1.一种改善磁控溅射气场均匀性装置，在磁控溅射腔体内设置有主气进气管、辅气进气管组，其特征在于：所述辅气进气管组包括相互平行设置的第一辅气进气管和第二辅气进气管，所述第一辅气进气管和第二辅气进气管上分别具有若干个出气段，第一辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第一均化器上，第二辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第二均化器上，所述第一均化器和第二均化器分别连接储气装置。

2.根据权利要求1所述的改善磁控溅射气场均匀性装置，其特征在于：所述第一辅气进气管上的若干出气段连成一串且彼此之间封闭，所述第二辅气进气管上的若干出气段连成一串且彼此之间封闭，两串出气段之间为错列式排布。

3.根据权利要求1所述的改善磁控溅射气场均匀性装置，其特征在于：每个所述出气段上沿轴线方向上均匀排列有若干个出气孔。

4.根据权利要求1所述的改善磁控溅射气场均匀性装置，其特征在于：每根所述输气管路上具有气体流量阀和气体流量计；第一均化器和储气装置之间、第二均化器和储气装置之间均具有气体流量阀和气体流量计。

5.根据权利要求2所述的改善磁控溅射气场均匀性装置，其特征在于：所述第一辅气进气管上具有五个出气段，位于所述第一辅气进气管中间位置的出气段最长，位于中间位置的出气段的两边出气段数量相等且大小相同；第二辅气进气管的结构与第一辅气进气管的结构相同，第二辅气进气管中部的出气段长于所述第一辅气进气管中部的出气段。

6.根据权利要求3所述的改善磁控溅射气场均匀性装置，其特征在于：每个所述出气段上具有至少五个出气孔。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的改善磁控溅射气场均匀性装置的操作方法，具体包括如下步骤：

1）根据生产要求打开储气装置中一种气体和第一均化器之间的气体流量阀，根据生产要求打开储气装置中一种气体和第二均化器之间的气体流量阀，从而使得第一均化器和第二均化器中分别通入气体；

2）打开并分别调节第一均化器和第一辅气进气管上若干个出气段之间的气体流量阀，使得指定气量的气体分别进入到相应的出气段内，再通过每个出气段上的出气孔进入到磁控溅射腔体内，从而使一辅气进气管对其周围的磁控溅射腔体环境中不同位置处的气体浓度能够进行有针对性的调节；

3）打开并分别调节第二均化器和第二辅气进气管上若干个出气段之间的气体流量阀，使得指定气量的气体分别进入到相应的出气段内，再通过每个出气段上的出气孔进入到磁控溅射腔体内，从而使第二辅气进气管对其周围的磁控溅射腔体环境中不同位置处的气体浓度能够进行有针对性的调节，同时也与第一辅气进气管进行相互配合的浓度调节。