[发明专利]用于光刻设备投影物镜的像质补偿机构

权利要求书

1.一种用于光刻设备的投影物镜，其特征在于，其中包括：像质补偿机构，用于补偿投影像质，所述像质补偿机构包括：

 宽带光源，用于提供一宽光谱探测光束，位于光纤的一端；

 若干所述光纤，所述光纤分布于反射镜凹表面，所述光纤上刻蚀有布拉格光栅；

    光谱仪， 位于所述光纤的另一端，用于探测经所述布拉格光栅滤波后的宽光谱探测光束；

运算执行机构，用于根据所述宽光谱探测光束获得所述反射镜凹表面的面型与温度分布，对所述反射镜背面进行外力校正。

2.如权利要求1所述的投影物镜，其特征在于，所述投影物镜为折反射透镜或者全反射透镜。

3.如权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，所述宽带光源的波长为500~1100nm。

4.如权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，所述光纤以网格状铺设于所述反射镜凹表面。

5.如权利要求4所述的投影物镜，其特征在于，所述光纤经纬纵横铺设于所述反射镜凹表面。

6.如权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，所述光纤每间隔一定距离刻蚀一组布拉格光栅，所述一组布拉格光栅包含两个布拉格光栅。

7.如权利要求6所述的投影物镜，其特征在于，所述每组布拉格光栅的中心波长各不相同，且刻蚀所述布拉格光栅的位置与所述反射镜反射表面紧密贴合。

8.如权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，还包括一夹持机构，所述夹持机构用于支承所述反射镜。

9.如权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，所述运算执行机构中负责执行校正动作的为压电陶瓷或者微动电机。