[发明专利]一种高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置

权利要求书

1.一种高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，包括污水处理腔（22）、阵列式高压雾化喷头（7）和上端开口的放电反应室（9），污水处理腔（22）的侧壁上具有污水入口Ⅰ、污水入口Ⅱ、污水出口Ⅰ和污水出口Ⅱ，污水处理腔（22）的顶壁上设有向污水处理腔（22）内投放硫酸亚铁的加药装置（2）和出气口（21）；

    所述污水出口Ⅱ通过污水管Ⅰ（23）与高压水泵（5）的进水口连通，所述高压水泵（5）的进水口通过污水管Ⅰ（23）与阵列式高压雾化喷头（7）连接，所述阵列式高压雾化喷头（7）位于放电反应室（9）的顶部；

    所述放电反应室（9）包括上端开口的反应室和设置在反应室内且沿反应室高度方向依次设置的多排网状线-线式放电装置（91），所述反应室的顶部设有将阵列式高压雾化喷头（7）喷出的高压雾化污水吹向放电反应室（9）内的风扇（8），所述放电反应室（9）的底部与气液分离器（11）的气液混合体入口连通，所述气液分离器（11）上还具有气体出口和液体出口，所述气体出口通过输气管（24）与气泵（13）的进气口连接，气泵（13）的出气口通过输气管（24）与位于污水处理腔（22）内下部的曝气器（4）的气体入口连通；所述液体出口通过污水管Ⅱ（25）与污水泵（12）的进水口连通，所述污水泵（12）的出水口通过污水管Ⅱ（25）与污水处理腔（22）侧壁上的污水入口Ⅱ连通。

2.如权利要求1所述的高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，所述污水处理腔（22）侧壁上的污水入口Ⅰ上连接有进污管（26），所述进污管（26）上设有调节阀Ⅴ（20），调节阀Ⅴ（20）通过调节其开阖程度控制进入污水处理腔（22）内的污水量；所述污水处理腔（22）的侧壁上的污水出口Ⅰ上连接有排污管，排污管上设有调节阀Ⅳ（19）。

3.如权利要求2所述的高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，所述污水处理腔（22）内还设有用于检测污水处理腔（22）内污水氧化还原电位的氧化还原电位计（3），所述污水管Ⅰ（23）上还设有调压阀Ⅰ（6），所述输气管（24）上还设有调节阀Ⅱ（14），所述污水管Ⅱ（25）上还设有调节阀Ⅲ（16）；还包括控制器（1），所述控制器（1）分别与投放硫酸亚铁的加药装置（2）、氧化还原电位计（3）、调压阀Ⅰ（6）、调节阀Ⅱ（14）、调节阀Ⅲ（16）、调节阀Ⅳ（19）、调节阀Ⅴ（20）、高压水泵（5）、污水泵（12）和气泵（13）连接；控制器（1）用于根据氧化还原电位计（3）检测的数据控制投放硫酸亚铁的加药装置（2）投入污水处理腔（22）内硫酸亚铁的量；还用于控制调压阀Ⅰ（6）、调节阀Ⅱ（14）、调节阀Ⅲ（16）、调节阀Ⅳ（19）和调节阀Ⅴ（20）的开阖程度，还用于控制高压水泵（5）、污水泵（12）、气泵（13）的工作状态。

4.如权利要求1所述的高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，所述网状线-线式放电装置（91）包括多根并排设置的细丝（93），相邻两根细丝（93）的间距为0.5-2.0mm，所述细丝（93）由导电电极（92）和包裹在导电电极（92）外侧的绝缘材料(94)构成。

5.如权利要求4所述的高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，所述导电电极（92）是由金属材料、合金材料或石墨制成的细丝且其直径为0.03-2mm。

6.如权利要求4所述的高压雾化介质阻挡放电等离子体水处理装置，其特征在于，所述包裹在导电电极（92）外侧绝缘材料(94)是陶瓷，所述陶瓷通过烧结的方式包裹在导电电极（92）的外侧，所述陶瓷的厚度为0.02-1mm。