[发明专利]用于喷射研磨的方法以及用于该方法的喷射研磨机

说明书

技术领域

本发明涉及一种按权利要求1前序部分所述的、用于喷射研磨的方法，并且涉及一种按权利要求5前序部分所述的用于该方法的喷射研磨机。

背景技术

在许多工艺中，在预处理（沉淀、浮选、洗涤）时以潮湿的悬浮状态获得待研磨的产品。如果经研磨的最终产品应该以干燥的状态存在，则要以耗费的方法来调节出期望的残留水份，例如通过机械式预脱水（例如在压滤机中）并随后通过热干燥来进行。最终通常在喷射研磨机中研磨成所需的最终精度。典型的应用是例如制造滑石粉、硅酸、氢氧化镁或陶瓷喷墨颜料。

缺点是设备成本和时间成本高，以便使待研磨的产品从潮湿的悬浮状态最终变成具有期望剩余水份和最终精度的状态。

发明内容

本发明的目的是，简化并且改进现有的方法。

此目的借助按权利要求1所述的、用于喷射研磨的方法以及按权利要求5所述的喷射研磨机得以实现。

因此按本发明规定，在一个共同的工艺步骤中进行研磨和干燥。因此，能够明显更简单且在耗能方面更有利地实现整个工艺。

在按本发明的用于在喷射研磨机中对湿润或潮湿的研磨物质进行喷射研磨的方法中，将湿润或潮湿的研磨物质传输到用来研磨的喷射研磨机中。在喷射研磨机中适当地选择至少一个运行参数（预压力、卸压压力和进入温度），以便进行研磨干燥。在此，湿润或潮湿的研磨物质同时在喷射研磨机中通过研磨而研磨至预先设定的最终精度并且通过干燥而干燥至预先设定的残留水分，以便获得具有预先设定的最终精度和预先设定的残留水分的最终产品。在此，通过适当地选择所述至少一个运行参数（预压力、卸压压力或进入温度）来这样选择研磨的特定运行介质需求量，即研磨的特定运行介质需求量大于或等于干燥的特定运行介质需求量。最后，将具有预先设定的最终精度和预先设定的残留水分的最终产品从喷射研磨机中导出。

优选还可规定，测量或监控研磨物质在其从喷射研磨机中导出之前的实际残留水分，或者测量或监控最终产品的实际残留水分。按优选的改进方案还可额外地规定，一方面根据研磨物质在其从喷射研磨机中导出之前的实际残留水分或最终产品的实际残留水分，另一方面根据最终产品的预先设定的残留水分，一次性地或重复地以多个时间段或至少几乎持续地为研磨干燥适当地调节出、控制或调整喷射研磨机的该至少一个运行参数。

在按本发明的方法的另一优选构造方案中，应用气体或过热蒸气作为运行介质。

本发明还提供一种用于将湿润或潮湿的研磨物质喷射研磨成最终产品的喷射研磨机，其中

-为了调节出、控制或调整运行参数中的至少一个运行参数（预压力、卸压压力和进入温度），在喷射研磨机中设置调节、控制或调整装置，借助它在喷射研磨机中适当地选择该至少一个运行参数（预压力、卸压压力和进入温度），从而进行研磨干燥，其中湿润或潮湿的研磨物质同时在喷射研磨机中通过研磨而研磨至预先设定的最终精度并且通过干燥而干燥至预先设定的残留水分，以便获得具有预先设定的最终精度和预先设定的残留水分的最终产品；

-该调节、控制或调整装置这样构成，即通过适当地选择该至少一个运行参数（预压力、卸压压力和进入温度）来这样选择研磨的特定运行介质需求量，即研磨的特定运行介质需求量大于或等于干燥的特定运行介质需求量；并且

-喷射研磨机的最终产品出口这样设计，即具有预先设定的最终精度和预先设定的残留水分的最终产品通过所述最终产品出口从喷射研磨机中导出。

喷射研磨机的最终产品出口优选配备有残留水分探测或监控装置，用来探测或监控研磨物质在其从喷射研磨机中导出之前的实际残留水分或最终产品的实际残留水分，该最终产品通过在喷射研磨机中对研磨物质进行研磨和干燥而获得。

在此还可优选规定，所述调节、控制或调整装置这样构成，即通过适当地选择这些/这个运行参数（预压力、卸压压力和/或进入温度）来这样选择研磨的特定运行介质需求量，即研磨的特定运行介质需求量大于或等于干燥的特定运行介质需求量。在此还可优选地规定，所述调节、控制或调整装置这样设计，即一方面根据研磨物质在其从喷射研磨机中导出之前的实际残留水分或最终产品的实际残留水分，另一方面根据最终产品的预先设定的残留水分，一次性地或重复地以多个时间段或至少几乎持续地适当地调节出、控制或调整喷射研磨机的该至少一个运行参数（预压力、卸压压力和进入温度）。

另一优选构造方案在于，应用气体或过热蒸气作为运行介质。

本发明的优选的和/或有利的构造方案以及它们的个别方面由从属权利要求及其组合中得出，并且从整个申请文本中得出。

附图说明