[发明专利]一种超高温石墨化处理设备无效

专利信息
申请号: 201410016297.0 申请日: 2014-01-14
公开(公告)号: CN103738956A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 戴煜;胡祥龙;胡高健 申请(专利权)人: 湖南顶立科技有限公司
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波
地址: 410118 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 超高温 石墨 处理 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及高温石墨化处理设备技术领域,特别涉及一种超高温石墨化处理设备。

背景技术

在目前的碳碳、碳陶复合材料生产加工过程中,超高温石墨化处理设备是一种必不可少的的物料处理设备,而随着使用需求的不断提高,人们对超高温石墨化处理设备的性能也提出了更高的要求。

目前现有的超高温石墨化处理设备工作过程中,其通常为间歇式设备,设备运行过程中的蓄热量大、升温速度慢、冷却时间长,整个处理过程的连续性较差,处理效率低下,且能耗较高,给相关的生产操作造成诸多不便。

因此,如何使得超高温石墨化处理设备的处理过程更加连续高效是本领域技术人员目前需要解决的重要技术问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种超高温石墨化处理设备,该超高温石墨化处理设备的处理过程连续高效。

为解决上述技术问题,本发明提供一种超高温石墨化处理设备,包括炉壳,所述炉壳内沿物料输送方向依次设置有相互连通的进料室、加热室和出料室,所述进料室与所述加热室之间设置有进料隔热门,所述加热室和所述出料室之间设置有出料隔热门,所述炉壳上设置有与所述出料室相配合的快速冷却系统,所述炉壳的内部设置有分别与所述进料室、所述加热室和所述出料室相配合的物料输送装置;

所述进料室内设置有相互配合的第一抽真空装置和第一进气装置,所述加热室内设置有相互配合的第二抽真空装置和第二进气装置,所述出料室内设置有相互配合的第三抽真空装置和第三进气装置,所述炉壳上设置有与所述第一抽真空装置、所述第二抽真空装置和所述第三抽真空装置相配合的真空机组。

优选地,所述进料隔热门和所述出料隔热门上均设置有高温阻挡层,且各所述高温阻挡层均位于靠近所述加热室的一侧。

优选地,所述进料隔热门和所述出料隔热门上均设置有气动装置,且各所述气动装置均位于远离所述加热室的一侧。

优选地,所述物料输送装置包括运料架和运料车。

优选地,所述运料车为碳碳复合材料制件。

优选地,所述进料室的内部、所述出料室的内部均设置有耐高温炉胆。

优选地,所述炉壳的外部可移动地设置有与所述进料室相配合的进料车。

优选地,所述炉壳的外部可移动地设置有与所述出料室相配合的出料车。

相对上述背景技术,本发明所提供的超高温石墨化处理设备,包括炉壳,所述炉壳内沿物料输送方向依次设置有相互连通的进料室、加热室和出料室,所述进料室与所述加热室之间设置有进料隔热门,所述加热室和所述出料室之间设置有出料隔热门,所述炉壳上设置有与所述出料室相配合的快速冷却系统,所述炉壳的内部设置有分别与所述进料室、所述加热室和所述出料室相配合的物料输送装置;所述进料室内设置有相互配合的第一抽真空装置和第一进气装置,所述加热室内设置有相互配合的第二抽真空装置和第二进气装置,所述出料室内设置有相互配合的第三抽真空装置和第三进气装置,所述炉壳上设置有与所述第一抽真空装置、所述第二抽真空装置和所述第三抽真空装置相配合的真空机组。工作过程中,所述物料输送装置控制物料依次经由所述进料室、所述加热室和所述出料室,实现了高效石墨化处理和快速冷却,处理过程中通过各抽真空装置和各进气装置的相互配合,保证了相应腔室的气氛或真空作业环境。所述超高温石墨化处理设备实现了物料石墨化的连续作业,且其处理效率较高。

在本发明的另一优选方案中,所述进料隔热门和所述出料隔热门上均设置有高温阻挡层,且各所述高温阻挡层均位于靠近所述加热室的一侧。所述高温阻挡层能够显著提高相邻两腔室间的隔热效果,以保证各腔室内的工序处理过程更加稳定高效。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一种具体实施方式所提供的超高温石墨化处理设备的结构示意图。

具体实施方式

本发明的核心是提供一种超高温石墨化处理设备,该超高温石墨化处理设备的处理过程连续高效。

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。

请参考图1,图1为本发明一种具体实施方式所提供的超高温石墨化处理设备的结构示意图。

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