[发明专利]蚀刻掩模用组合物及图案形成方法

说明书

本发明提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO₂粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。

技术领域

本发明涉及作为蚀刻太阳能电池用基板时的掩模剂来使用的蚀刻掩模用组合物。

背景技术

在太阳能电池制造工序中，对基板进行部分地蚀刻处理时使用了掩模剂。以往，在该工序中使用光致抗蚀剂，但是目前为了削减工序数而研究了印刷型抗蚀剂的应用。作为对太阳能电池用基板进行蚀刻处理时的蚀刻液，使用氢氟酸、硝酸等强酸。因此，作为印刷型抗蚀剂所要求的特性，需要实现对蚀刻时的蚀刻液的耐酸性以及基于印刷法的图案形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-293888号公报

发明内容

发明要解决的问题

在以往的印刷型抗蚀剂中，在确保充足的耐酸性、同时忠实地再现印刷设计而形成良好图案的方面，具有改善的余地。另外，对于实施连续印刷时的印刷稳定性也有改善的余地。

本发明是鉴于这样的课题而完成的，其目的在于提供能够提高将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性的技术。

用于解决课题的方案

本发明的一个方案为一种蚀刻掩模用组合物。该蚀刻掩模用组合物是包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO₂粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)的非感光性的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。

根据上述方案的蚀刻掩模用组合物，可以提高印刷于太阳能电池用基板时的印刷性。

上述方案的蚀刻掩模用组合物中，溶剂(C)可以包含沸点为190℃以上的溶剂(C1)。SiO₂粒子(B)可以为亲水性。另外，还可以具备硅系、丙烯酸系或氟系的表面活性剂(D)。

本发明的另一个方案是一种图案形成方法。该图案形成方法包括：使用上述任意一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物，利用印刷法在基板上形成掩模图案的工序；烘烤掩模图案的工序；对基板进行蚀刻并转印掩模图案的工序；以及除去掩模图案的工序。

发明效果

根据本发明，可以提高将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的耐酸性及印刷性。

附图说明

图1(A)～图1(C)是表示基板上的图案形成工序的概略剖面图。

具体实施方式

实施方式所述的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其适合用作对太阳能电池用基板进行部分地蚀刻处理时所使用的蚀刻掩模。

实施方式所述的蚀刻掩模用组合物包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO₂粒子(B)20～100质量份、及溶剂(C)。以下，对实施方式所述的蚀刻掩模用组合物的各成分进行详细说明。

作为酚醛树脂(A)，可列举出使下述例示的酚类与下述例示的醛类在盐酸、硫酸、蚁酸、草酸、对甲苯磺酸等酸性催化剂下进行反应而得到的酚醛树脂等。