[发明专利]用于执行正电子发射断层成像的方法和装置无效

专利信息
申请号: 201410019322.0 申请日: 2014-01-16
公开(公告)号: CN103932789A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: S.施密特 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: A61B19/00 分类号: A61B19/00;A61B6/03;A61B5/055
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 执行 正电子 发射 断层 成像 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于执行对检查对象(102)的正电子发射断层成像的方法(1),其中,在将正电子发射断层成像示踪剂引入检查对象(102)以后,所述方法(1)包括以下方法步骤:

S1)执行至少一次功能性磁共振断层成像以确定至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度;

S2)执行正电子发射断层成像;

S3)根据至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度来适配正电子发射断层成像的结果。

2.根据权利要求1所述的方法(1),其中,通过功能性磁共振断层成像重复执行对脑区(104)的所述至少一个激活程度的确定,或者其中,重复执行方法步骤S1至S3,其中能够分别预先给定重复率。

3.根据权利要求2所述的方法(1),其中,至少在正电子发射断层成像示踪剂积聚的时间段上通过功能性磁共振断层成像来重复确定脑区(104)的所述至少一个激活程度。

4.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,通过默认模式网络的脑区(104)和/或任务正激活网络的脑区(104)来确定所述能够预先给定的脑区(104)。

5.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,通过默认模式网络的脑区(104)和通过任务正激活网络的脑区(104)来确定所述能够预先给定的脑区(104),并且根据默认模式网络和任务正激活网络的活动分布(22,24)程度的比例来确定对正电子发射断层成像的结果的适配。

6.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,当至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度的测度位于能够预先给定的公差范围之外时,给出警告。

7.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,在正电子发射断层成像的结果的适配中考虑这样的时间,在该时间上所述至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度超过能够预先给定的阈值。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法(1),其中,在确定脑区(104)的所述至少一个激活程度之后将该至少一个程度与激活阈值相比较,如果脑区(104)的所述至少一个激活程度大于该激活阈值则执行能够预先给定的行动,尤其是声学的和/或光学的和/或触觉的信号的输出。

9.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,在正电子发射断层成像的结果的适配中考虑正电子发射断层成像示踪剂在检查对象(102)内随时间的积聚(30)。

10.根据权利要求9所述的方法(1),其中,借助能够预先给定的饱和函数来近似或者通过借助正电子发射断层成像-磁共振断层成像设备进行测量来确定正电子发射断层成像示踪剂在检查对象(102)之内随时间的积聚。

11.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,在至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度的确定中考虑脑的分割,该分割借助以正电子发射断层成像-磁共振断层成像设备的正电子发射断层成像部分对正电子发射断层成像示踪剂的积聚(30)进行测量来确定并且被转用于以正电子发射断层成像-磁共振断层成像设备的磁共振断层成像部分获得的磁共振断层成像图像。

12.根据上述权利要求中任一项所述的方法(1),其中,在至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度的确定中考虑脑图谱。

13.一种用于执行检查对象(102)的正电子发射断层成像的装置(100),包括正电子发射断层成像设备、磁共振断层成像设备以及计算和控制单元(120),其中,将磁共振断层成像设备实施为用于在将正电子发射断层成像示踪剂引入检查对象(102)以后,执行至少一次功能性磁共振断层成像以确定至少一个能够预先给定的脑区(104)的至少一个激活程度并且将该至少一个程度提供给计算和控制单元(120),以及其中,正电子发射断层成像设备实施为用于执行检查对象(102)的正电子发射断层成像并且将该结果提供给计算和控制单元(120),以及其中,计算和控制单元(120)设计为用于根据至少一个能够预先给定的脑区(104)的所述至少一个激活程度来适配检查对象(102)的正电子发射断层成像的结果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410019322.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top