[发明专利]成膜方法和成膜装置

权利要求书

1.一种成膜方法，用于对基板进行成膜，其中，

该成膜方法包括以下步骤：

输入步骤，其使沿圆周方向具有多个基板载置部的旋转台间歇性地旋转而将多个上述基板载置部依次配置于输入输出区域，并将基板依次载置于所配置的上述基板载置部；

成膜步骤，反复多次进行通过使上述旋转台旋转而使上述基板公转、并且将彼此反应的反应气体交替向基板表面供给的循环，而在基板上层叠上述反应气体的反应生成物，从而在基板表面上形成薄膜；

改性步骤，对通过使上述旋转台间歇性地旋转而被依次配置在与上述输入输出区域相邻的加热区域中的基板分别加热，对上述薄膜进行改性；以及

输出步骤，接着改性步骤，通过间歇性地旋转上述旋转台，将在上述改性步骤中改性了上述薄膜的基板依次配置在上述输入输出区域，并将所配置的基板依次输出，

其中，在上述改性步骤中，对上述多个基板中的一个基板进行加热而进行改性，接着旋转上述旋转台而将与上述一个基板相邻的另一个基板配置于上述加热区域，接着对所配置的上述另一个基板进行改性，

在上述输出步骤中，在利用上述改性步骤对上述另一个基板进行改性的期间，将在该改性步骤中改性了的上述一个基板输出。

2.根据权利要求1所述的成膜方法，其中，

在上述改性步骤中，使用被配置于上述旋转台的上方的加热灯来向该旋转台照射光，从而将上述旋转台的局部区域作为上述加热区域来进行加热。

3.根据权利要求2所述的成膜方法，其中，

在上述改性步骤中，将配置于上述加热区域的基板向上方移动，在使该基板接近上述加热灯之后照射上述光。

4.一种成膜装置，其中，

该成膜装置包括：

旋转台，其在上表面具有用于将多个基板以沿着圆周方向排列的方式载置的多个基板载置部；

第1气体供给部，其配置于上述旋转台的上方的第1处理区域，用于向上述多个基板供给第1反应气体；

第2气体供给部，其配置于在上述旋转台的圆周方向与上述第1处理区域分开的第2处理区域，用于向上述多个基板供给第2反应气体；

分离气体供给部，其设置于上述第1处理区域和上述第2处理区域之间，用于对上述上表面供给分离气体；以及

分离区域，其与上述上表面之间形成有狭窄空间，该狭窄空间用于将供给来的上述分离气体向上述第1处理区域和上述第2处理区域引导，

上述第2处理区域包括：输入输出区域，其用于将基板载置到上述旋转台；加热区域，其与上述输入输出区域相邻地配置，为了对基板表面的薄膜进行改性而加热基板，

其中，在上述第2处理区域中，在上述加热区域中对上述多个基板中的一个基板进行改性时，从上述输入输出区域将已经改性过的另一个基板输出。