[发明专利]固态图像拾取设备及其制造方法有效
申请号: | 201410020040.2 | 申请日: | 2014-01-16 |
公开(公告)号: | CN103928480B | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 栗原政树;下山大辅;伊藤正孝;渡边杏平 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 宿小猛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固态 图像 拾取 设备 及其 制造 方法 | ||
1.一种固态图像拾取设备的制造方法,在该固态图像拾取设备中,在半导体基板上设置多个光接收部,该方法包括:
与各光接收部对应地在半导体基板之上以相互接触方式形成多个滤色器;
在所述多个滤色器上形成第一平坦化层;
在所述第一平坦化层上形成具有开口的光致抗蚀剂;
在光致抗蚀剂的侧表面上形成侧壁;
通过至少使用侧壁作为掩模执行蚀刻来在所述第一平坦化层中形成开口以及在各滤色器之间形成中空部;以及
在形成所述第一平坦化层中的所述开口以及所述中空部之后留下的具有开口的光致抗蚀剂上形成第二平坦化层。
2.根据权利要求1所述的固态图像拾取设备的制造方法,进一步包括形成覆盖中空部的盖层。
3.根据权利要求1所述的固态图像拾取设备的制造方法,其中,光致抗蚀剂包含耐200℃或更高温度的耐热材料。
4.根据权利要求1所述的固态图像拾取设备的制造方法,其中,光致抗蚀剂包含对于波长为400nm到700nm的光的透射率为80%或更大的材料。
5.根据权利要求1所述的固态图像拾取设备的制造方法,其中,在侧壁形成中,在包含光致抗蚀剂的侧表面和上表面的全部表面上形成氧化物膜,然后使用各向异性干蚀刻方法对氧化物膜进行蚀刻,以便留下光致抗蚀剂的侧表面上的氧化物膜以形成侧壁。
6.根据权利要求5所述的固态图像拾取设备的制造方法,其中,在侧壁形成中,还留下在光致抗蚀剂的上表面上的氧化物膜。
7.根据权利要求5所述的固态图像拾取设备的制造方法,其中,在形成中空部的蚀刻中使用的气体是氧气、一氧化碳气体和氮气,以及在氧化物膜的蚀刻中使用的气体是碳氟化合物气体和氩气。
8.根据权利要求1所述的固态图像拾取设备的制造方法,进一步包含在多个滤色器中的每个滤色器之上与各光接收部对应地形成微透镜。
9.一种固态图像拾取设备,在该固态图像拾取设备中,在半导体基板的上表面上设置多个光接收部,该固态图像拾取设备包括:
在半导体基板之上形成的与各光接收部对应的多个滤色器;
在所述多个滤波器上形成的第一平坦化层;
在所述第一平坦化层上形成的具有开口的光致抗蚀剂;以及
侧壁,侧壁被形成为使得侧壁的一端接触光致抗蚀剂的侧表面,
其中,在所述第一平坦化层中形成开口,在各滤色器之间形成中空部,并且该中空部与该侧壁中的与该一端相对的另一端对齐地形成,
以及
其中,所述固态图像拾取设备进一步包括在形成所述第一平坦化层中的所述开口以及所述中空部之后留下的具有开口的光致抗蚀剂上形成的第二平坦化层。
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