[发明专利]遮光阵列透镜及其制造方法

权利要求书

1.一种遮光阵列透镜，包含一个本体及多个光学有效区，该本体包括一个顶面及一个底面，所述光学有效区设置于该本体中且自该顶面延伸至该底面，光线可通过所述光学有效区；其特征在于：该遮光阵列透镜还包含一个遮光区，该遮光区自该本体顶面向下凹入设置于该本体中，该遮光区包括多个围绕界定所述光学有效区的内周面、一个邻近该本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于所述内周面与该外周面间的容墨槽，及一个填于该容墨槽中的遮光墨层，该遮光墨层的厚度小于该容墨槽的深度。

2.如权利要求1所述的遮光阵列透镜，其特征在于：该遮光阵列透镜满足关系式：

T/10≤D≤2T/3，

T为该本体的该顶面周缘至该底面周缘的距离，D为该本体的该顶面周缘至该容墨槽底面的距离。

3.一种遮光阵列透镜的制造方法，其特征在于包含以下步骤：

一、预备一个阵列透镜，其包括一个本体、多个光学有效区及一个遮光区，该本体包括一个顶面及一个底面，所述光学有效区设置于该本体中且自该顶面延伸至该底面，光线可通过所述光学有效区，该遮光区自该本体顶面向下凹入设置于该本体中，该遮光区包括多个围绕界定所述光学有效区的内周面、一个邻近该本体顶面周缘设置的外周面，及一个界定于所述内周面与该外周面间的容墨槽；

二、于该容墨槽中填入遮光墨；及

三、将遮光墨进行固化形成一个遮光墨层，该遮光墨层的厚度小于该容墨槽的深度。

4.如权利要求3所述的遮光阵列透镜的制造方法，其特征在于：步骤一中，该阵列透镜满足关系式：

T/10≤D≤2T/3，

T为该本体的该顶面周缘至该底面周缘的距离，D为该本体的该顶面周缘至该容墨槽底面的距离。

5.如权利要求3所述的遮光阵列透镜的制造方法，其特征在于：步骤二中，使用点胶机将遮光墨点注入该容墨槽中。

6.如权利要求3所述的遮光阵列透镜的制造方法，其特征在于：步骤二中，使用喷墨机将遮光墨喷注入该容墨槽中。