[发明专利]一种硅量子点的大规模生产方法

权利要求书

1. 一种硅量子点的大规模生产方法，其特征在于：具体步骤为：

（1）配制反应前驱液 

将表面活性剂以及基础溶剂配制成混合溶剂，把原料硅纳米粉分散在混合溶剂中；其中，表面活性剂占混合溶剂的体积百分比为5%-50%； 

（2）分离硅纳米粉胶体

将步骤（1）获得的混合物，自然静置或者低速离心，分离出分散性好的硅纳米粉胶体，其中，静置时间为1-10天，低速离心用低速离心机以小于1000转每分钟的速率离心5-30分钟；

（3）配制酸腐蚀液，滴加入步骤（2）得到的硅纳米粉胶体，以加快反应终止过程，提高产物硅量子点发光峰位的控制精度；其中，酸腐蚀液由氢氟酸和硝酸的混合物构成，用步骤（1）中的基础混合溶液稀释，氢氟酸体积占比5%-50，硝酸体积占比为5-40%；

（4）利用紫外波段激光器和光谱仪，实时监控产物的发光特性，实现产物的发光峰位控制；

（5）量子点清洗和过滤。

2. 如权利要求1所述的生产方法，其特征在于，所述原料硅纳米粉为多晶硅或者单晶硅粉末，粉末平均尺寸小于60nm。

3. 如权利要求1所述的生产方法，其特征在于，所述表面活性剂为有机表面活性剂或者无机表面活性剂。

4. 如权利要求1所述的生产方法，其特征在于，所述氢氟酸与硝酸的体积比例为0.5-2:1；酸腐蚀液滴加速率为1mg-10mg/小时×50ml反应原料。