[发明专利]一种类石墨烯片层结构的碳纳米片材料的制备和应用有效
| 申请号： | 201410024281.4 | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103787320A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 马国富;彭辉;武亚娟;王海平;雷自强 | 申请（专利权）人： | 西北师范大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;H01G11/44;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人： | 张英荷 |
| 地址： | 730070 甘肃*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 种类 石墨 烯片层 结构 纳米 材料 制备 应用 | ||
【权利要求书】：
1. 一种类石墨烯片层结构的碳纳米片材料的制备方法，是将有机高分子聚合物用去离子水洗涤除去杂质后，分别用浓度为1～3 mol/L NaOH 溶液、去离子水和乙醇洗涤，干燥后与无机化合物充分混合，在N2保护、250～450℃的条件下预活化1～4 h，升温至600～900℃碳化2～6 h，然后在空气中，于200～300℃下二次活化1～3 h；所得碳材料于50～80℃的HCl溶液中浸泡6～48 h，冷却至室温，过滤，去离子水洗涤至中性，干燥即得；所述有机高分子聚合物为如酚醛树脂、离子交换树脂、脲醛树脂中的至少一种；所述无机化合物为KOH、Ca(OH)2、ZnCl2、NH4Cl中的至少一种。
2.如权利要求1所述类石墨烯片层结构的碳纳米片材料的制备方法，其特征在于：有机高分子聚合物与无机化合物的质量比为1:1～1:5。
3.如权利要求1所述类石墨烯片层结构的碳纳米片材料的制备方法，其特征在于：所述HCl溶液的浓度为1～3 mol/L。
4.如权利要求1所述类石墨烯片层结构的碳纳米片材料的制备方法，其特征在于：所述干燥是在40～60℃下真空干燥。
5. 如权利要求1所述方法制备的类石墨烯片层结构的碳纳米片材料作为超级电容器电极材料的应用。
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