[发明专利]玻璃基板的研磨方法及制造方法、以及研磨装置无效
申请号: | 201410027681.0 | 申请日: | 2014-01-21 |
公开(公告)号: | CN103934747A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 木村宏;伊藤正文;山口龙;高野茂喜;江面裕行 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;王培超 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 研磨 方法 制造 以及 装置 | ||
1.一种玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
基于使与研磨装置的平板的研磨面抵接的多个玻璃基板的位置变化的马达的电力或者电流的检测值,对所述玻璃基板的研磨条件进行控制,以使得在所述研磨面中研磨速度差变小。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述研磨面形成为具有内周端和外周端的圆盘形状,
基于所述检测值对所述研磨条件进行控制,以使得所述研磨面的内周端侧和外周端侧的研磨速度差变小。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
在判定为所述研磨面的外周端侧的研磨速度高于所述研磨面的内周端侧的研磨速度的情况下,基于所述检测值对所述研磨条件进行控制,以提高所述研磨面的温度;
在判定为所述研磨面的内周端侧的研磨速度高于所述研磨面的外周端侧的研磨速度的情况下,基于所述检测值对所述研磨条件进行控制,以降低所述研磨面的温度。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
基于所述检测值判定所述研磨面和与该研磨面抵接的多个玻璃基板之间的抵接状态,并根据该判定结果对所述研磨条件进行控制。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述研磨装置具有上平板的研磨面和下平板的研磨面,
基于所述检测值对所述研磨条件进行控制,以使得上平板的研磨面和下平板的研磨面之间的距离在研磨面中变得均等。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述研磨装置具有上平板的研磨面和下平板的研磨面,
所述检测值是利用上平板的研磨面的摩擦力和下平板的研磨面的摩擦力之比对所述马达的电力或者电流的测定值进行修正后的值。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述马达是对平板、太阳轮、内齿轮中的至少一个进行驱动的驱动马达。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述检测值是用所述马达中的特定的驱动马达的电力除以所述特定的驱动马达的电力和所述马达中的与所述特定的驱动马达不同的其他驱动马达的电力相加所得的总电力而得的值,或者是用所述特定的驱动马达的电流除以所述特定的驱动马达的电流和所述不同的其他驱动马达的电流相加所得的总电流而得的值。
9.根据权利要求7所述的玻璃基板的研磨方法,其特征在于,
所述检测值是用所述马达中的特定的驱动马达的电力除以所述马达中的与所述特定的驱动马达不同的其他驱动马达的电力而得的值,或者是用所述特定的驱动马达的电流除以所述不同的其他驱动马达的电流而得的值。
10.一种玻璃基板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃基板的制造方法具有使用权利要求1至9中任一项所述的玻璃基板的研磨方法的研磨工序。
11.根据权利要求10所述的玻璃基板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃基板是磁性记录介质用玻璃基板。
12.一种研磨装置,其特征在于,
所述研磨装置具备:
平板,该平板具有研磨面;
保持件,该保持件能够保持要利用所述研磨面进行研磨的多个玻璃基板;
马达,该马达使所述研磨面与所述保持件之间的相对位置变化;以及
控制部,该控制部基于所述马达的电力或者电流的检测值对所述玻璃基板的研磨条件进行控制,以使得在所述研磨面中研磨速度差变小。
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