[发明专利]用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 201410028026.7 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN103756395A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 王冬霞 申请(专利权)人: 上海赛肯森材料科技有限公司
主分类号: C09D7/00 分类号: C09D7/00
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 李颖薇
地址: 200092 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 反射 涂料 组合 纳米 粒子 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,为由聚合物以及含硅无机材料复合形成的纳米粒子,其特征在于:所述的聚合物为带硅氧烷基团的聚合物,所述的无机材料为含硅氧烷基团的单体,该含硅氧烷基团的单体与聚合物中的硅氧烷基团以化合键结合形成有机-无机复合纳米杂化粒子。

2.根据权利要求1所述的用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,其特征在于:所述的无机材料占纳米杂化粒子总质量的30~80%。

3.根据权利要求1或2所述的用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,其特征在于:所述聚合物中的硅氧烷基团选自乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷中的一种或多种。

4.根据权利要求1或2所述的用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,其特征在于:所述的含硅氧烷基团的单体为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求1或2所述的用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,其特征在于:所述的聚合物除硅氧烷基团之外,部分或者全部为聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸N, N-二甲氨基乙酯、聚丙烯酸丁酯、聚氨酯,聚氧化乙烯,聚氧化丙烯、聚丙烯酸钠、聚四亚甲基醚二醇、聚丙二醇、聚乙烯吡啶、聚乙二醇的均聚物,或两种及以上的嵌段共聚物。

6.根据权利要求5所述的用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子,其特征在于:所述的聚合物除硅氧烷基团之外,为双嵌段共聚物。

7.一种利用权利要求1至6之一所述的纳米杂化粒子制备减反射涂料组合物的方法,包括下述步骤:

步骤1:制备包括硅氧烷基团的聚合物;

步骤2:加入含有硅氧烷基团的单体,充分反应,制得纳米杂化粒子;

步骤3:加入稀释剂,pH调节剂,制得减反射涂料组合物,

其中,加入的含有硅氧烷基团的单体与聚合物中硅氧烷基团的摩尔比为(20~60):1。

8.根据权利要求7所述的制备减反射涂料组合物的方法,其特征在于:所述稀释剂的加入量为使纳米杂化粒子的固含量在2~4%。

9.根据权利要求1至6之一所述的纳米杂化粒子在减反射涂料组合物中的用途,其特征在于:所述的减反涂料组合物包括纳米杂化粒子,且纳米杂化粒子在涂层组合物中的固含量不大于8%,纳米杂化粒子的粒径为40~150 nm。

10.根据权利要求9所述的纳米杂化粒子在减反射涂料组合物中的用途,其特征在于:所述的涂料组合物涂布在基材上并经固化处理后形成涂层,涂层的厚度不大于250 nm,二氧化硅的折光指数不高于1.4。

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