[发明专利]磁记录介质的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种磁记录介质的制造方法。

背景技术

近年，磁存储装置被安装在个人计算机、录像机、数据服务器等各种各样的产品中，其重要性日益增加。磁存储装置是一种具有通过磁记录对电子数据进行保存的磁记录介质的装置，例如，可包括磁盘装置、可挠性（软）盘装置、磁带装置等。磁盘装置例如可包括硬盘驱动器（ＨＤＤ：Hard Disk Drive）等。

一般的磁记录介质具有多层膜积层结构，该多层膜积层结构例如可通过在非磁性基板上按底层（或称基层）、中间层、磁记录层、及保护层的顺序进行成膜，然后在保护层的表面涂敷润滑层而形成。为了防止杂物（不纯物）等混入磁记录介质的各层之间，在磁记录介质的制造中使用了一种可在减压状态下连续地对各层进行积层的串列式（Inline）真空成膜装置（例如，参照专利文献1）。

在串列式真空成膜装置中，具有可在基板上进行成膜的成膜单元的多个（本文指2个以上）成膜室、进行加热处理的加热室、及预备室等一起介由闸阀（Gate Valve）连接，形成了一条成膜线。在搬运单元上安装（安放）基板并使其通过成膜线的过程中，基板上可形成预定层的膜，据此，可制成预期的磁记录介质。

一般而言，成膜线被配置为环状，成膜线上具有基板装卸室，用于将基板安装至搬运单元或从搬运单元上将其拆卸下来。在成膜室间绕了一圈的搬运单元被送入基板装卸室，从搬运单元上拆下成膜后的基板，并在成膜后的基板被拆下了的搬运单元内再安装新的基板。

另外，作为在磁记录介质的表面形成润滑层的方法，提出了一种在真空成膜容器内载置磁记录介质，并在成膜容器内导入气化润滑剂的汽相润滑（Vapor-Phase Lubrication）成膜方法（例如，参照专利文献2）。

如上所述，在串列式真空成膜装置中制造具有多层膜积层结构的磁记录介质的情况下，例如，形成磁记录层时使用基于溅射法（Sputtering Method）的真空成膜装置；形成保护层时使用基于离子束法的真空成膜装置；形成润滑层时使用基于汽相润滑成膜法的真空成膜装置。据此，能够以不使被积层体与大气接触的方式来进行从磁记录层至润滑层的形成过程（或称“成膜步骤”），这样，就可以防止杂物从大气混入各层之间。

另外，还提出了一种磁记录介质（例如专利文献3），其中，形成2层润滑层；保护层侧具有固定层（或称“粘合（bond）层”），其化学性稳定并具有与保护层之间适当的密着性；及、表面侧具有流动层（或称“自由（free）层”），其主要由低摩擦系数材料构成。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]特开平8－274142号公报

[专利文献2]特开2004－002971号公报

[专利文献3]特开2006－147012号公报

发明内容

[发明要解决的课题]

如果考虑到磁记录介质和磁头的接触，则润滑层的摩擦系数最好为较低。另一方面，如果考虑到磁记录介质的耐腐蚀性，则基于润滑层的保护层表面的被覆率最好为较高。

因此，本发明的目的在于提供一种磁记录介质的制造方法，其可降低润滑层的摩擦系数，并可提高基于润滑层的保护层表面的被覆率。

[用于解决课题的手段]

根据本发明的一个侧面，提供一种磁记录介质的制造方法，其在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层。其中，所述润滑层是按如下方式形成的，即：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第1润滑剂；之后，使用溶解于有机溶媒的第2润滑剂，在所述被积层体上涂敷润滑剂。

[发明的效果]

根据所公开的磁记录介质的制造方法，可减低润滑层的摩擦系数，并可提高基于润滑层的保护层表面的被覆率。

附图说明

[图1]对本发明的一个实施方式的磁记录介质的制造装置的一个例子进行表示的模式图。

[图2]对由图1的制造装置所制造的磁记录介质的一个例子进行表示的截面图。

[图3]对具有在本实施方式中所制造的磁记录介质的磁存储装置的结构的一个例子进行表示的斜视图。

[符号说明]

1 磁记录介质

100 基板

101 成膜装置

110 密着层

111、112、940、942、946机器人

120 软磁性底层

130 配向控制层

140 非磁性底层