[发明专利]一种监控晶圆的使用方法

权利要求书

1.一种监控晶圆的使用方法，其特征在于，包括：

在对机台进行overlay测量工艺稳定性监控时，采用通过单层刻蚀得到的具有外盒结构的监控晶圆，当所述机台上正在使用的所述监控晶圆损坏时，用具有相同所述外盒结构的监控晶圆替代即可；其中，所述外盒结构的外边缘用S1表示，内边缘用S2表示，x1’为所述外盒结构的右侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，x2’为所述外盒结构的左侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，y1’为所述外盒结构的上侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，y2’为所述外盒结构的下侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，得到的检测结果为：X方向：(x2’-x1’)/2，Y方向：(y2’-y1’)/2，所述监控晶圆的图形的检测结果的目标值为零；

其中，所述外盒结构的内边缘与外边缘为同心图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述监控晶圆的图形形状为圆形或方形。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述监控晶圆的图形为方形时，所述监控晶圆的图形在四边方向的内边缘与外边缘之间的距离均相同。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述监控晶圆的图形的内边缘的边长为20um，外边缘为的边长为30um。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，不同的监控晶圆的图形上内边缘与外边缘之间的距离不唯一，根据所述监控晶圆的使用场景选择内边缘与外边缘不同距离的监控晶圆的图形。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述监控晶圆的图形的检测结果的目标值为零，有明确的目标值，当机台目标值漂移时，及时进行调整。