[发明专利]匀气结构及等离子体系统

权利要求书

1.一种匀气结构，其特征在于，包括匀气板与进气板；

所述匀气板上设置通孔；

所述进气板覆盖在所述匀气板的通孔上，所述进气板上设置喷气孔。

2.根据权利要求1所述的匀气结构，其特征在于，所述通孔的尺寸和形状与所述进气板的尺寸和形状相匹配；

所述进气板活动安装于所述匀气板的通孔内。

3.根据权利要求1所述的匀气结构，其特征在于，所述通孔的数量为多个。

4.根据权利要求1所述的匀气结构，其特征在于，所述喷气孔的数量为多个。

5.一种等离子体系统，包括腔体、介质窗与喷嘴，其特征在于，还包括权利要求1至4任一项所述的匀气结构；

所述介质窗置于所述腔体的开口上；

所述介质窗的中部设置安装孔，所述喷嘴插入所述安装孔中；

所述匀气板置于所述喷嘴的下方，并安装于所述介质窗上；

气体从所述喷嘴中流入，经由所述通孔与所述喷气孔位置对应的重叠部分，通入所述腔体内。

6.根据权利要求5所述的等离子体系统，其特征在于，在所述介质窗靠近所述腔体的端面的中部设置凹槽；

所述安装孔位于所述凹槽的底部；所述匀气板内嵌于所述凹槽内；

所述匀气板与所述凹槽的底部之间具有预设的距离。

7.根据权利要求5所述的等离子体系统，其特征在于，所述介质窗靠近所述腔体的端面为平面；

所述匀气板为槽形，所述匀气板的槽形开口朝向所述介质窗。

8.根据权利要求6或7所述的等离子体系统，其特征在于，所述匀气板活动安装于所述介质窗上；

所述匀气板与所述介质窗之间设置密封胶圈。

9.根据权利要求5所述的等离子体系统，其特征在于，所述喷气孔的形状为圆形、椭圆形、菱形或方形。

10.根据权利要求5所述的等离子体系统，其特征在于，还包括盲板；

所述盲板的数量与所述进气板的数量之和等于所述通孔的数量；

当多个所述通孔中的部分所述通孔上未对应覆盖所述进气板时，所述盲板覆盖在未覆盖所述进气板的所述通孔上。

11.根据权利要求6或7所述的等离子体系统，其特征在于，所述进气板通过紧固件安装于所述匀气板上。

12.根据权利要求5所述的等离子体系统，其特征在于，所述匀气板、所述进气板的材料与所述介质窗相同。

13.根据权利要求12所述的等离子体系统，其特征在于，所述匀气板、所述进气板与所述介质窗的材料为石英。