[发明专利]花生施加钼肥的方法无效

专利信息
申请号: 201410034400.4 申请日: 2014-01-24
公开(公告)号: CN103797954A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 曾彩莲 申请(专利权)人: 曾彩莲
主分类号: A01C21/00 分类号: A01C21/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 吴彦峰
地址: 537500 广西壮族自治*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 花生 施加 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉花生种植施肥领域,特别是花生种植过程施加钼肥的方法。

背景技术

钼是农作物生长所必需的微量元素,在植物体内是固氮酶和硝酸还原酶的重要组成部分,在生理代谢上,主要参与生物固氮作用和促进植物体内的氮、磷营养代谢作用。通过参与和影响氮素转化的两大生理过程—硝酸还原过程和固氮作用,进而能促进花生等豆科作物的根瘤菌的生长及增强固氮功能,进而影响其氮碳代谢从而促进花生植株的生长,显著提高产量,并能改善花生的品质。南方的土壤以酸性为多,钼易与酸性土壤中游离铁、铝等作用产生沉淀而容易造成缺钼。因此,在花生上使用钼肥具有明显的效果。为达到科学施肥需寻找一种合理高效的钼肥施用方法。

发明内容

本发明目的是提供一种花生种植过程中钼肥的施加方法,该方法能够在酸性土壤条件下效提高花生生产产量,及有效解决钼肥合理施加的问题。

本发明发明内容:在花生种植播种时及生育期间施加钼酸铵,按照以下步骤操作:

    步骤一,花生种植时,取花生种重量千分之一至千分之二的钼酸铵,将所述钼酸铵开溶后加入适量清水并与所述花生种搅拌均匀;将搅拌均匀的所述花生种播种;

    步骤二,在花生始花期对花生喷洒清水;

步骤三,在花生盛花期对花生喷洒浓度为0.05%-0.06%钼酸铵溶液。喷洒次数已1-2次为宜,可间隔5-7天。

本发明针对的是花生钼肥的施加方法,应该清楚的是花生的种植管理及花生的其他施肥、追肥应该与正常情况一样。上述步骤一中钼酸铵开溶可用温水对钼酸铵进行搅拌,开溶后的钼酸铵再稀释并与花生种进行搅拌,搅拌完成即可马上播种。采用钼肥拌种播种可以降低由于土壤酸性影响,在花生生长初期促进根瘤菌生长及及花生植株生长发育。步骤二及步骤三对花生可应用喷雾器喷洒。在花生始花期对花生喷洒清水有助于花生花蕾及枝叶生长发育,促进花生花蕾对钼元素吸收。在花生盛花期对花生喷洒浓度为0.05%-0.06%钼酸铵溶液有助促进花生植株生长发育、增加花生饱果率,从而花生增产增收。

所述钼肥包括钼酸铵和钼酸钠。

本发明有益效果是:1.有效解决花生在酸性土壤中钼元素的缺失,促进花生生长,增加花生产量。

具体实施方式

以下是本发明具体实施例的说明。

实施例1:花生试验品种为汕油523。种植面积为一亩,田间共分12个小区,每小区起2畦。在花生播种前,取10g的钼酸铵,用少量热水开溶后均匀拌种10kg,随拌随播。播种时,每畦种四纵行,小行距23cm,中间行距33cm,成宽窄行,株距17cm,每穴种两粒。播种前每亩施加三元复合肥15kg,花生抽出3片真叶后进行追肥,每亩复合肥15kg。在花生始花期对花生喷洒清水,喷洒量根据田间水分适量即可;在花生盛花期对花生喷洒浓度为0.05%钼酸钠溶液,可选择在晴天傍晚时分,每隔6天喷洒一次,共两次。实施例中对花生施加肥料及田间管理应该认为是正常种植所必须的。

针对实施例1,设置二组对照组,第一组:在花生始花期喷施浓度为0.05%钼酸铵溶液,在花生盛花期喷洒清水;第二组:在花生始花期和盛花期均喷洒清水。两对照组田间管理与施肥等均与上述方案相同。

 

由上表可知,按照实施例中施加钼酸铵明显达到花生增产增收的目的。

实施例2:花生试验品种为汕油523。种植面积为一亩,田间共分12个小区,每小区起2畦。在花生播种前,取20g的钼酸铵,用少量热水开溶后均匀拌种10kg,随拌随播。播种时,每畦种四纵行,小行距23cm,中间行距33cm,成宽窄行,株距17cm,每穴种两粒。播种前每亩施加三元复合肥15kg,花生抽出3片真叶后进行追肥,每亩复合肥15kg。在花生始花期对花生喷洒清水,喷洒量根据田间水分适量即可;在花生盛花期对花生喷洒浓度为0.06%钼酸铵溶液,可选择在晴天傍晚时分,每隔5天喷洒一次,共两次。

针对实施例2,设置二组对照组,第一组:在花生始花期喷施浓度为0.05%钼酸铵溶液,在花生盛花期喷洒清水;第二组:在花生始花期和盛花期均喷洒清水。两对照组田间管理与施肥等均与上述方案相同。

由上表可知,按照实施例中施加钼酸铵明显达到花生增产增收的目的。实施例中每亩钼肥成本不超过4元,而每亩至少增加25kg的产量。

综合实施例1、2可知,按实施例中的方法步骤进行钼肥的施加均达到了对花生的增产增收的目的。而且其试验数据基本相近,即在本发明设定范围内的参数,均可以满足预定要求。

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