[发明专利]真空等离子体表面处理设备

权利要求书

1.一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，其特征在于，所述处理设备包括放卷仓、收卷仓及连接在所述放卷仓和收卷仓之间的等离子体处理仓，其中：

所述放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且所述放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有开口，用于将所述卷绕材料由所述放卷仓穿入到所述等离子体处理仓；

所述等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，所述支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并防止所述材料垂落到所述上、下电极板，且所述支撑辅助导辊的上切面位于所述下电极板和上电极板的中心位置；

所述收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊，所述纠偏系统用于对发生偏离的所述卷绕材料的位置进行引导纠正。

2.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷导辊为两端支撑，且所述放卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，所述锁紧装置放开时，所述放卷导辊以所述固定的一端为圆心，可以横向旋转。

3.根据权利要求2所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机连接。

4.根据权利要求3所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷张力辅助导辊为两端支撑，且所述放卷张力辅助导辊安装有张力控制器，用于检测放卷侧所述卷绕材料的张力。

5.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述等离子体处理仓具有上门，所述下电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的内下面，所述上电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的上门。

6.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏系统包括导向系统和纠偏传感器。

7.根据权利要求6所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏传感器为U型结构，所述卷绕材料边缘从所述U型纠偏传感器的正中穿过，所述纠偏传感器根据所述卷绕材料的位置，控制所述导向系统的偏转方向。

8.根据权利要求7所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏传感器通过感应红外或超声波判断所述卷绕材料的位置。

9.根据权利要求8所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述收卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机链接，所述驱动电机可带动所述收卷导辊任意正反旋转。

10.根据权利要求9所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述收卷张力辅助导辊为两端支撑，所述收卷张力辅助导辊装有张力控制器，用于检测收卷侧所述卷绕材料的张力；

所述收卷导辊为两端支撑，且所述收卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，所述锁紧装置放开时，所述收卷导辊以固定的一端为圆心，可以横向旋转，且所述收卷导辊为气涨轴结构，用于锁紧卷材卷心。