[发明专利]一种全息光栅的曝光方法及曝光光路有效
申请号: | 201410038074.4 | 申请日: | 2014-01-26 |
公开(公告)号: | CN103792606A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 周倩;倪凯;田瑞;逄锦超;许明飞;董昊;张锦超 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B27/00 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 余敏 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 全息 光栅 曝光 方法 | ||
1.一种全息光栅的曝光方法,利用两个曝光光源发出两束相干光,在光栅基底上进行干涉曝光;其特征在于:包括调节两个曝光光源的位置,形成曝光光路的步骤:
(1)根据全息光栅的设计要求和成像质量要求确定所述两个曝光光源的初始位置;
(2)采用光学设计软件仿真曝光光源位于初始位置时的初始光路,计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数;
(3)在初始光路中设置补偿镜;
(4)根据所述补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置,所述新位置满足:曝光光源位于新位置时,透过所述补偿镜的成像点为所述初始位置;
(5)采用光学设计软件仿真设置有补偿镜,曝光光源位于新位置时的新光路,计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数;
(6)判断所述步骤(5)中的成像质量参数与所述步骤(2)中的成像质量参数的差值是否小于等于设定阈值,如是,则进入步骤(7);如否,则调节补偿镜的位置,并返回步骤(4)-(5);
(7)将新位置作为曝光光源的最终位置;将曝光支路上设置有补偿镜,曝光光源位于新位置的新光路作为最终的曝光光路。
2.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述补偿镜为凹透镜,设置在曝光光源的曝光支路上。
3.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述补偿镜为凸透镜,设置在曝光光源的初始位置与光栅基底的中心位置的连线的延长线上。
4.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述补偿镜为凹透镜,设置在两个曝光光源的两路曝光支路重叠的光路区域上。
5.根据权利要求4所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述凹透镜的中心在角COD的角平分线上,所述凹透镜的主面与角COD的角平分线垂直;其中,C点和D点分别为两个曝光光源的初始位置。
6.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述补偿镜包括凹透镜和凸透镜,凹透镜设置在一个曝光光源的曝光支路上,凸透镜设置在另一个曝光光源的初始位置与光栅基底的中心位置的连线的延长线上。
7.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述补偿镜为反射镜,设置在曝光光源的曝光支路上。
8.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光设计方法,其特征在于:所述步骤(2)或所述步骤(5)中光学设计软件为Zemax光学设计软件。
9.根据权利要求1所述的全息光栅的曝光方法,其特征在于:所述步骤(2)和所述步骤(5)中的成像质量参数为分辨率、灵敏度中的一种或者两种。
10.一种全息光栅的曝光光路;其特征在于:包括两个曝光光源,补偿镜和光栅基底;根据权利要求1~9的曝光方法设置所述两个曝光光源的位置,使所述两个曝光光源与补偿镜、光栅基底形成曝光光路;所述两个曝光光源发出两束相干光,在光栅基底上进行干涉曝光。
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