[发明专利]密封件和密封结构有效

专利信息
申请号: 201410042241.2 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN103972717A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 古屋義信;泷下隆太;山田刚;岩部真明;平田敏树 申请(专利权)人: 矢崎总业株式会社
主分类号: H01R13/52 分类号: H01R13/52;H01R13/631
代理公司: 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人: 陈波;吴立
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 密封件 密封 结构
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种密封件和密封结构,并且特别是涉及一种环状密封件和使用该密封件的密封结构,所述密封件的外周面和内周面形成有突起和凹槽。

背景技术

例如,专利文献1公开了一种密封结构,其中包括彼此嵌合的一对筒状连接器外壳,环状密封件(例如,橡胶密封垫)安装到第一连接器外壳的外周面,并且当将第二连接器外壳嵌合到第一连接器外壳时,由密封件密封第一连接器外壳的外周面与第二连接器外壳的内周面之间的间隙。

在专利文献1中,将筒状保持器安装到第一连接器外壳的外周面,所述筒状保持器防止将密封件从与密封件的安装方向相反的方向的后方卸下,并且保持器在密封件侧处的端部形成有覆盖密封件的后端部的挤压部。因此,即使当在嵌合这两个连接器外壳时第二连接器外壳在嵌合方向上的先端部与密封件的后端部之间的接触状态存在偏差时,利用嵌合这两个连接器外壳的力使密封件从第一连接器外壳的外周面卸下,因为保持器的挤压部覆盖密封件的后端部,所以能够防止密封件卷曲。

[专利文献1]:日本专利公开No.10-199610

发明内容

根据本发明的一个方面,提供了一种密封件,该密封件构造成安装到一对连接器外壳之中的第一连接器外壳的外周面,从而密封所述一对连接器外壳之中的所述第一连接器外壳的所述外周面与第二连接器的内周面之间的间隙,其中,

所述密封件的内周面形成有在该密封件的轴向上与第一波长匹配的突起和凹槽,

所述密封件的外周面形成有在所述轴向上与第二波长匹配的突起和凹槽,

所述第一波长等于或者小于所述第二波长,并且

所述内周面的所述突起的位置在所述轴向上偏离所述外周面的所述突起的位置。

所述密封件可以构造成使得:所述外周面的所述突起的顶部的位置与所述内周面的所述凹槽的底部的位置在所述轴向上彼此一致。

所述密封件可以构造成使得:所述内周面的所述突起距离所述内周面的所述凹槽的高度小于所述外周面的所述突起距离所述外周面的所述凹槽的高度。

所述密封件可以构造成使得:所述密封件的所述内周面在所述轴向上的两个端部中的至少一个端部处形成有平面,并且所述平面距离所述内周面的所述凹槽的高度等于所述内周面的所述突起距离所述内周面的所述凹槽的所述高度。

根据本发明的另一个方面,提供了一种密封结构,包括:

第一连接器外壳;

第二连接器外壳;以及

密封件,该密封件安装在第一连接器外壳的外周面上,从而密封第一连接器外壳的外周面与第二连接器外壳的内周面之间的间隙,其中

密封件的内周面形成有在密封件的轴向上与第一波长匹配的突起和凹槽,

密封件的外周面形成有在轴向上与第二波长匹配的突起和凹槽,

第一波长等于或者小于第二波长,并且

内周面的突起的位置在轴向上偏离外周面的突起的位置。

所述密封件可以构造成使得:所述外周面的所述突起的顶部的位置与所述内周面的所述凹槽的底部的位置在所述轴向上彼此一致。

所述密封件可以构造成使得:所述第一连接器外壳的所述外周面形成有从所述外周面升高的阶梯部;所述密封件在该密封件安装到所述第一连接器外壳的安装方向上的前表面面对所述阶梯部;所述密封件的所述内周面在所述安装方向上的前端部形成有平面;并且所述平面距离所述内周面的所述凹槽的高度等于所述内周面的所述突起距离所述内周面的所述凹槽的高度。

密封件可以具有环状,并且第一连接器外壳和第二连接器外壳可以具有筒状。

附图说明

图1是使用本发明密封件的密封结构的实施例的概略构造的截面图。

图2是本发明的密封件的总体透视图。

图3是图2的纵向截面图。

图4是图3的局部A的放大图。

图5A和5B是示出本发明的密封件挤压连接器外壳并且变形的截面图。

图6A至6C是示出传统密封件挤压连接器外壳并且变形的截面图。

具体实施方式

传统密封件的内周面和外周面在轴向上形成有环状突起和凹槽。在专利文献1中,因为保持器覆盖密封件的后端部,所以在将这两个连接器外壳嵌合在一起时,密封件的后端部不卡住第二连接器外壳的先端部,而将密封件的突起部推到第二连接器外壳的先端部,并且在预定方向上变形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矢崎总业株式会社,未经矢崎总业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410042241.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top