[发明专利]表面颗粒检测仪量测平台

说明书

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种表面颗粒检测仪量测平台。

背景技术

随着制程工艺要求的进一步提高，对所述晶圆表面的缺陷越来越受到重视。请参阅图5、图6，图5所示为现有表面颗粒检测仪量测平台的立体结构图。图6所示为现有表面颗粒检测仪测量平台之真空吸附模式的结构示意图。众所周知地，现有的表面颗粒检测仪量测平台主要包括如下两种类型：

（1）通过真空吸附所述晶圆，然后依靠所述机械装置带动旋转的所述真空吸附形式3；明显地，所述真空吸附形式之量测平台在量测背部脏污的晶圆2或者具有一定翘曲变形的晶圆2时，所述真空吸附形式难以密闭，无法稳固吸附所述晶圆2，导致所述晶圆2掉落在所述量测平台上。

（2）通过抓取臂夹住所述晶圆2，然后依靠所述机械装置带动旋转的所述边缘抓取形式（未图示）。显然地，所述边缘抓取形式避免了所述真空吸附形式对具有脏污的晶圆或者具有一定翘曲变形的晶圆量测时，所述真空吸附形式难以密闭，无法稳固吸附所述晶圆，导致所述晶圆掉落在所述量测平台上的缺陷，但是，通过所述边缘抓取形式进行晶圆表面颗粒检测的过程中，所述晶圆的转速过低，极大程度的限制了设备之产能。

故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本发明一种表面颗粒检测仪量测平台。

发明内容

本发明是针对现有技术中，传统的表面颗粒检测仪量测平台之真空吸附形式对具有脏污的晶圆或者具有一定翘曲变形的晶圆量测时，所述真空吸附形式难以密闭，无法稳固吸附所述晶圆，导致所述晶圆掉落在所述量测平台上的缺陷；或者所述传统的表面颗粒检测仪量测平台之边缘抓取形式在进行晶圆表面颗粒检测的过程中，所述晶圆的转速过低，极大程度的限制了设备之产能等缺陷提供一种表面颗粒检测仪量测平台。

为实现本发明之目的，本发明提供一种表面颗粒检测仪量测平台，所述表面颗粒检测仪量测平台包括：定子结构，呈凹型设置，并在所述定子结构之凹槽内形成所述转子结构之容置空间，且在所述定子结构之凹槽的边沿臂内设置所述导电线圈、第一传感器和偏载磁体；转子结构，悬浮设置在所述定子结构之凹槽内，且在所述定子结构之磁力作用下发生转动；支撑体，设置在所述转子结构之异于所述定子结构一侧，并用于承载所述待量测之晶圆；第二传感器，间隔设置在所述定子结构之底部。

可选地，所述用于承载待量测晶圆的支撑体呈环状设置，以形成收容待量测晶圆之容置腔。

可选地，所述第二传感器为8个，并呈对称分布设置在所述定子结构之底部。

可选地，所述定子结构之凹槽的边沿臂内所设置的导电线圈、第一传感器和偏载磁体用于产生磁悬浮磁场，并感应所述转子结构的悬浮旋转和停止状态。

可选地，所述定子结构之底部间隔设置的所述第二传感器用于检测所述转子结构之位置信号，并将所述转子结构之位置信号反馈至所述磁场控制器，以监视所述转子结构的转速和控制所述转子结构的转动状态，进而完成所述待量测晶圆的转移。

综上所述，本发明表面颗粒检测仪量测平台通过设置定子结构和磁悬浮设置在所述定子结构内的转子结构，且在所述转子结构上通过所述承载体承载所述待量测晶圆，不仅有效的避免了所述待量测晶圆的翘曲变形和背面脏污造成真空失效导致的当机，而且提高生产效率，延长设备的正常生产时间。

附图说明

图1所示为本发明表面颗粒检测仪量测平台之截面图；

图2所示为本发明表面颗粒检测仪量测平台之定子结构示意图；

图3所示为本发明表面颗粒检测仪量测平台之定子结构俯视图；

图4所示为本发明表面颗粒检测仪量测平台的工作原理图；

图5所示为现有表面颗粒检测仪量测平台的立体结构图；

图6所示为现有表面颗粒检测仪测量平台之真空吸附模式的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本发明创造的技术内容、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。