[发明专利]一种彩膜基板、显示面板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。

背景技术

目前，显示装置，如液晶显示装置（Liquid Crystal Display，LCD)和有机发光显示装置（Organic Light-Emitting Diode，OLED）等，由于其具有体积小、重量轻、厚度薄、功耗低、无辐射等特点，在当前的显示装置市场中占据了主导地位。

但是，实际使用中，发现显示装置（尤其是彩膜基板上）存在静电累积问题，引起显示画面的质量下降，影响了显示效果。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种彩膜基板、显示面板和显示装置。

本发明提供一种彩膜基板，包括：第一基板；黑矩阵层，位于所述第一基板上；以及静电释放导线层，位于所述黑矩阵层上，并连接于所述黑矩阵层。

相应的，本发明还提供了一种显示面板，包括如上所述的彩膜基板；TFT阵列基板，与彩膜基板相对设置；以及连接层，位于所述TFT阵列基板与彩膜基板之间，所述连接层连接于所述静电释放导线层。

相应的，本发明还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

本发明实施例所提供的技术方案具有以下的优点之一：

本发明实施例所提供的彩膜基板、显示面板及显示装置，通过在彩膜基板的黑矩阵层上设置静电释放导线层，如此，彩膜基板上的静电通过所述静电释放导线层导走，从而使得静电不会积累在彩膜基板上，提高了显示画面的质量，提高了显示效果。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的彩膜基板中黑矩阵层的俯视图；

图2为本发明实施例一提供的彩膜基板的一种俯视图；

图3a和图3b为图2提供的彩膜基板的结构示意图；

图4为本发明实施例一提供的彩膜基板的另一种俯视图；

图5为本发明实施例二提供的彩膜基板的一种俯视图；

图6为本发明实施例二提供的彩膜基板的另一种俯视图；

图7为本发明实施例三提供的彩膜基板的一种俯视图；

图8为本发明实施例三提供的彩膜基板的另一种俯视图；

图8a为图8提供的彩膜基板中静电释放导线层的俯视图；

图9为本发明实施例三提供的彩膜基板的再一种俯视图；

图10为本发明实施例四提供的彩膜基板的一种俯视图；

图11为本发明实施例五提供的显示面板的一种俯视图；

图12为本发明实施例五提供的TFT阵列基板的一种结构示意图；

图13为本发明实施例六提供的显示装置的一种结构示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

需要说明的是，

1.“X位于Y上”，中“...上”的含义仅仅表示X在层状结构上位于Y上，并不一定表示X一定完全覆盖Y。当然，Y完全覆盖Y可以作为一种优选的实施方式。本申请文件中“...上”的含义可以参照此解释。

2.本发明实施例不对第一静电释放导线、第二静电释放导线的走线形状作限定，实施例及附图中阐述的第一静电释放导线、第二静电释放导线的走线形状仅为举例而非限定，例如举例：第一黑矩阵在第一基板上的投影覆盖第一静电释放导线在第一基板上的投影；第二黑矩阵在第一基板上的投影覆盖第二静电释放导线在第一基板上的投影。

如图1、图2和图3a所示，本发明实施例一提供一种彩膜基板1，包括：第一基板2；黑矩阵层3，位于第一基板2上；以及静电释放导线层4，位于黑矩阵层3上，并连接于黑矩阵层3，换句话说，静电释放导线层4直接覆盖于黑矩阵层3上，这样当人眼从第一基板2远离静电释放导线层4的一侧观察该彩膜基板1时，看不到静电释放导线层4的形状；色阻层5，位于黑矩阵层3上。色阻层5包括多个色阻单元51，黑矩阵层3具有暴露出该色阻单元51的开口（未示出），优选的，黑矩阵层3采用Cr、CrO等材料，静电释放导线层4采用金属等导电材料。

通常，彩膜基板1的结构示意图可如图3a所示，此时，色阻层5包括多条色阻条（未图示），且色阻条均为连续的，此时，色阻层5位于黑矩阵层3上且覆盖静电释放导线层4；当然，彩膜基板1的结构示意图也可如图3b所示，即色阻条也可为不连续的，换句话说，色阻条也可包括开口而使得色阻条为不连续的，而静电释放导线层4位于该开口中。