[发明专利]光学断层成像装置及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201410042724.2 申请日: 2014-01-29
公开(公告)号: CN103961061A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 正木俊文;青木博;坂川幸雄 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;A61B3/14;A61B3/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 断层 成像 装置 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种光学断层成像装置,被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与该测量光相对应的参照光组合成的光来获得该物体的断层图像,该光学断层成像装置包括:

测量光光路长度改变单元,被配置为改变所述测量光的光路长度;

选择单元,被配置为选择所述物体的多个成像部位中的任何一个;以及

控制单元,被配置为根据与所选择的成像部位相对应的断层图像的成像范围的大小来控制所述测量光光路长度改变单元。

2.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,

还包括指令单元,被配置为根据所选择的成像部位给出关于所述断层图像的成像范围的大小的指令,

其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令来控制所述测量光光路长度改变单元。

3.根据权利要求2所述的光学断层成像装置,

其中,所述测量光光路长度改变单元包括光学单元移动机构,该光学单元移动机构被配置为相对于所述物体移动包括所述测量光的光路的光学单元,并且

其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令来控制所述光学单元移动机构。

4.根据权利要求2所述的光学断层成像装置,

还包括参照光光路长度改变单元,被配置为改变所述参照光的光路长度,

其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述参照光光路长度改变单元。

5.根据权利要求2所述的光学断层成像装置,

还包括移动单元,被配置为沿着光路移动聚焦透镜,该聚焦透镜将所述测量光聚焦在所述物体上,

其中,所述控制单元被配置为根据所述指令单元的指令以联锁方式控制所述测量光光路长度改变单元和所述移动单元。

6.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,

还包括显示控制单元,被配置为使得显示单元显示用于给出关于对所述多个成像部位中的任何一个的选择的指令的显示形态,

其中,所述选择单元被配置为根据操作单元的操作给出关于所述选择的指令。

7.根据权利要求6所述的光学断层成像装置,

其中,所述物体是被检者眼睛,

其中,所述多个成像部位包括所述被检者眼睛的眼底的部位,并且

其中,所述显示控制单元被配置为在所述被检者眼睛的眼底的部位被所述选择单元选择的情况下,使得所述显示单元显示指示出根据所述被检者眼睛的瞳孔的大小的所述眼底的断层图像的成像范围的大小的极限的显示形态。

8.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,

其中,所述物体是被检者眼睛,并且

其中,所述多个成像部位包括所述被检者眼睛的前眼部的部位和所述被检者眼睛的眼底的部位中的至少一者。

9.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,

其中,所述物体是被检者眼睛,

其中,所述多个成像部位包括所述被检者眼睛的前眼部的角膜和虹膜角膜角中的至少一者,并且

其中,所述控制单元被配置为控制所述测量光光路长度改变单元在所述角膜被选择的情况下增大所述测量光的光路长度,并且在所述虹膜角膜角被选择的情况下减小所述测量光的光路长度。

10.根据权利要求1所述的光学断层成像装置,

其中,所述物体是被检者眼睛,

其中,所述多个成像部位包括所述被检者眼睛的黄斑和视神经盘中的至少一者,并且

其中,所述控制单元被配置为控制所述测量光光路长度改变单元在所述黄斑被选择的情况下增大所述测量光的光路长度,并且在所述视神经盘被选择的情况下减小所述测量光的光路长度。

11.一种用于控制光学断层成像装置的方法,该光学断层成像装置被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与该测量光相对应的参照光组合成的光来获得该物体的断层图像,该方法包括:

选择所述物体的多个成像部位中的任何一个;以及

根据与所选择的成像部位相对应的断层图像的成像范围的大小来控制测量光光路长度改变单元,该测量光光路长度改变单元被配置为改变所述测量光的光路长度。

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