[发明专利]接合材料和接合构造体在审

专利信息
申请号: 201410044836.1 申请日: 2014-02-07
公开(公告)号: CN104072187A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 儿玉一宗;内藤孝;藤枝正;泽井裕一;青柳拓也;宫城雅德 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: C04B37/02 分类号: C04B37/02;C03C27/00;C03C8/14
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 接合 材料 构造
【权利要求书】:

1.一种接合构造体,其特征在于,具备:

第一基材;

第二基材;和

将所述第一基材和所述第二基材接合的接合材料层,

所述第一基材为陶瓷、半导体和玻璃中的任一种基材,

所述接合材料层包含金属和氧化物,

所述氧化物含有V和Te,

在所述第一基材与所述金属之间的至少一部分存在所述氧化物。

2.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

在所述金属中分散有所述氧化物。

3.如权利要求2所述的接合构造体,其特征在于:

在所述金属中分散有空隙。

4.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述氧化物含有Ag和P中的至少一种。

5.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述氧化物含有Sb、Ba、W、Fe和碱金属中的至少一种元素。

6.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述第一基材为氧化铝、氮化铝、氮化硅、硅和碳化硅中的任一种,

所述第二基材为金属基材或金属与陶瓷的复合材料基材。

7.如权利要求6所述的接合构造体,其特征在于:

所述第二基材为Cu、Al和Al-SiC中的任一种。

8.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述第一基材为氮化铝或氮化硅,该第一基材的表面上0.1~5μm的范围的主要成分为氧化物。

9.如权利要求1所述的接合构造体,其特征在于:

所述金属包含Ag、Cu、Al、Sn、Zn、Au、In、Bi和Pt中的至少一种。

10.一种接合材料,其为通过加热将基材彼此接合的接合材料,其特征在于,具有:

成分中含有V和Te,且Pb为RoHS指令的指定值以下的玻璃;和金属。

11.如权利要求10所述的接合材料,其特征在于:

还具有溶剂,所述接合材料为膏状,所述金属为金属颗粒。

12.如权利要求10所述的接合材料,其特征在于:

在所述金属中埋入有玻璃的颗粒,

所述接合材料的形状为箔状或板状。

13.如权利要求10所述的接合材料,其特征在于:

所述接合材料具有多个层,

所述多个层中的一个层为金属层,

所述多个层中的一个层为玻璃层。

14.如权利要求10~13中任一项所述的接合材料,其特征在于:

所述玻璃含有V、Te和P,且换算为氧化物V2O5>TeO2>P2O5(质量%)。

15.如权利要求11~13中任一项所述的接合材料,其特征在于:

所述玻璃含有V2O5、TeO2和Ag2O,且换算为氧化物V2O5+TeO2+Ag2O≥85质量%。

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