[发明专利]一种防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，包括金属基底层，所述金属基底层上依次设置有红外反射层、中间吸收层和表层减反射层，所述红外反射层为Mo膜，所述表层减反层为SiO₂膜，其特征在于：所述金属基底层靠近所述红外反射层的一面经热处理后形成一层致密的氧化防扩散层，所述红外反射层与中间吸收层之间设有SiO₂防扩散层。 

2.根据权利要求1所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述热处理的温度为500-600℃。 

3.根据权利要求1或2所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述热处理的处理时间为2～4小时。 

4.根据权利要求1所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述金属基底层由不锈钢制成。 

5.根据权利要求1所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述氧化防扩散层为不锈钢氧化层。 

6.根据权利要求1所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述氧化防扩散层和SiO₂防扩散层的厚度均为20～40nm。 

7.根据权利要求6所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层，其特征在于：所述氧化防扩散层和SiO₂防扩散层的厚度均为30nm。 

8.一种制备权利要求1～7任一项所述防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层的方法，其特征在于，其包括如下步骤： 

（1）对金属基底层进行表面清洗、抛光表面处理，然后经过热处理形成一层致密的氧化防扩散层； 

（2）采用金属Mo靶通过中频磁控溅射或直流磁控在Ar气中反应溅射制备Mo膜，形成红外发射层； 

（3）采用SiO₂在上述红外反射层上沉积一层SiO₂防扩散层； 

（4）采用共溅射方式，在对金属Mo靶进行溅射的同时，采用石英靶射频磁控溅射方法溅射沉积SiO₂，形成由Mo-SiO₂膜组成的中间吸收层； 

（5）停止中频或直流磁控溅射Mo膜，继续射频溅射SiO₂膜，形成由SiO₂膜组成的表层减反射层。 

9.根据权利要求8所述的防扩散型高温太阳能选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于：所述热处理的温度为500-600℃，所述热处理的处理时间为2～4小时。