[发明专利]一种掩膜板支撑装置和清洗掩膜板的方法在审
| 申请号： | 201410050506.3 | 申请日： | 2014-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN104849955A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 张士健 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟;赵礼杰 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 支撑 装置 清洗 方法 | ||
1.一种掩膜板支撑装置，其特征在于，包括用于支撑掩膜板的框架以及设置于所述框架底部并与所述框架组成容置空间的底板；其中，所述框架的外侧设置有用于防止掩膜板水平移动的防滑挡板，所述防滑挡板的顶端高于所述框架的顶端。
2.如权利要求1所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架的各个侧壁的高度相同。
3.如权利要求1所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述底板为矩形，所述框架由首尾相连的四个矩形的侧壁组成，其中，每个侧壁的底边与所述底板的一条边相连。
4.如权利要求3所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架的至少两个相对的侧壁之上设置有所述防滑挡板。
5.如权利要求3所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架的四个侧壁之上均具有所述防滑挡板，并且，所述防滑挡板首尾相连形成位于所述框架外侧的防滑框架。
6.如权利要求1所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述防滑挡板的底端高于所述框架的底端。
7.如权利要求1至6任一项所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架的顶端设置有用于吸附掩膜板的吸附装置。
8.如权利要求1至6任一项所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架、所述底板与所述防滑挡板为一体成型的结构。
9.如权利要求1至6任一项所述的掩膜板支撑装置，其特征在于，所述框架、所述底板与所述防滑挡板的材料为聚四氟乙烯。
10.一种清洗掩膜板的方法，其特征在于，所述方法包括：
步骤S101：将掩膜板放置于如权利要求1所述的掩膜板支撑装置之上，其中，所述掩膜板的设置有掩膜板保护膜的一侧朝向所述框架与所述底板组成的容置空间；
步骤S102：对所述掩膜板进行清洗并进行干燥处理；
步骤S103：从所述掩膜板支撑装置上取下所述掩膜板。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
