[发明专利]微蚀处理系统及相关设备有效

专利信息
申请号: 201410050962.8 申请日: 2014-02-13
公开(公告)号: CN104846373B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 幸锐敏;崔怀磊;苏怀昌;姜海星;张喜龙 申请(专利权)人: 深南电路有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙)44285 代理人: 唐华明
地址: 518053 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 处理 系统 相关 设备
【权利要求书】:

1.一种微蚀处理系统,其特征在于,用于电路板垂直生产线,包括:

主槽和副槽以及循环装置;

所述主槽用于容纳待微蚀的板件,所述主槽内设有至少两条靠近所述主槽的底部并与所述板件平行的喷射管,所述主槽的与所述板件垂直的第一侧壁的下部设有开口,所述第一侧壁的上部以及与所述第一侧壁相对的第二侧壁的上部均设有溢出口;所述副槽的两个相对的侧壁上均设有流入口,且所述副槽的一个侧壁的下部设有排出口;

所述循环装置包括底部循环管道,与所述底部循环管道相连的泵浦,以及至少两条顶部循环管道;所述底部循环管道经过所述泵浦,且一端通过所述主槽的开口与所述喷射管相连,另一端与所述副槽的排出口相连;每一条顶部循环管道的两端分别与所述主槽的一个溢出口和所述副槽的一个流入口相连;

其中,所述副槽内的微蚀药剂在所述泵浦的作用下,经所述底部循环管道进入所述喷射管,经所述喷射管上的喷射孔喷射进入所述主槽内,用于对所述主槽内的板件进行微蚀;所述主槽内的微蚀药剂经所述顶部循环管道向所述副槽回流。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:

所述喷射管上的喷射口方向朝下,所述喷射管中的微蚀药剂通过所述喷射孔喷射到主槽底部后向上反射,使所述主槽底部的微蚀药剂循环向上流动;

或者,所述喷射管上的喷射口方向朝上,所述喷射管中的微蚀药剂通过所述喷射孔直接向上喷射,使所述主槽底部的微蚀药剂循环向上流动。

3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:

所述副槽内还设有用于加速微蚀药剂循环的鼓风管道,所述鼓风管道与外部鼓风装置相连。

4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:

所述副槽内设有用于加热微蚀药剂的加热装置。

5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:

所述主槽内设有三条相互平行的喷射管,其中一条喷射管位于所述主槽的中央,另两条喷射管分别靠近与所述板件平行的第三侧壁和第四侧壁。

6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于:

所述第一侧壁上的溢出口与所述第二侧壁上的溢出口,以所在主槽平面的中心呈中心对称分布。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的系统,其特征在于:

所述喷射管的直径为1至1.5英寸,所述喷射管距离主槽底部5至10厘米。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的系统,其特征在于:

所述喷射孔的直径为5至10毫米,相邻喷射孔的间距为5至10厘米。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的系统,其特征在于:

所述顶部循环管道的直径为1至3英寸,所述主槽的溢出口略高于所述主槽与所述副槽中微蚀药剂平衡时的液面。

10.一种电路板垂直生产线设备,其特征在于,包括:

如权利要求1至9中任一项所述的微蚀处理系统。

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