[发明专利]过滤膜

权利要求书

1.一种用于维持能够重复使用的过滤膜的孔径的方法，所述方法包括使所述过滤膜暴露于包含碳氢化合物或碳氟化合物单体的等离子体从而在其表面上形成聚合物层。

2.如权利要求1所述的方法，其中，对所述能够重复使用的过滤膜进行碱洗。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述能够重复使用的过滤膜由合成聚合物材料构成。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述合成聚合物材料是聚乙烯。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述等离子体是脉冲等离子体。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述单体是式(I)化合物

其中，R¹、R²和R³独立地选自氢、烷基、卤代烷基或可选地取代有卤素的芳基；且R⁴是基团X-R⁵，其中R⁵是烷基或卤代烷基，并且X是：键；式-C(O)O(CH₂)_nY-的基团，其中n是1～10的整数，Y是键或磺酰胺基团；或者基团-(O)_pR⁶(O)_q(CH₂)_t-，其中R⁶是可选地取代有卤素的芳基，p是0或1，q是0或1，t是0或1～10的整数，条件是当q为1时t不为0。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述式(I)化合物是式(II)化合物

CH₂=CH-R⁵    (II)

其中R⁵如权利要求1中所定义，或所述式(I)化合物是式(III)化合物

CH₂=CR^7aC(O)O(CH₂)_nR⁵    (III)

其中n和R⁵如权利要求1中所定义，R^7a是氢、C_1-10烷基或C_1-10卤代烷基。

8.如权利要求7所述的方法，其中，所述式(I)化合物是式(III)化合物。

9.如权利要求7所述的方法，其中，所述式(III)化合物是式(IV)化合物

其中，R^7a如权利要求4中所定义，并且x为1～9的整数。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述式（IV）化合物是丙烯酸-1H,1H,2H,2H-十七氟癸酯。

11.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，将所述过滤膜放置在等离子体沉积室内，在所述室内引发辉光放电，以脉冲场方式施加电压。

12.如权利要求11所述的方法，其中，施加的电压处于40W～500W的功率。

13.如权利要求11或权利要求12中任一项所述的方法，其中，所述电压以下述序列脉冲调制，在该序列中，接通时间:关闭时间的比例为1:500～1:1500。

14.如权利要求9～15中任一项所述的方法，其中，在初始步骤中使连续功率的等离子体施加至所述过滤膜。

15.如权利要求14所述的方法，其中，所述初始步骤在惰性气体的存在下进行。

16.一种能够重复使用的过滤膜，所述过滤膜已经由前述权利要求中任一项所述的方法处理。

17.如权利要求16所述的能够重复使用的过滤膜，所述过滤膜由合成聚合物材料构成。

18.如权利要求17所述的可重复使用的过滤膜，所述过滤膜由聚乙烯构成。

19.一种过滤液体的方法，所述方法包括使液体样品通过权利要求16～18中任一项所述的过滤膜，并在使用后在苛性碱溶液中洗涤所述过滤膜以备再次使用。

20.通过等离子体聚合工艺沉积的聚合的碳氟化合物或碳氢化合物涂层使过滤膜耐受化学侵蚀的应用。