[发明专利]一种芳烃硼酸酯类化合物及其合成方法

权利要求书

1.一种芳烃硼酸酯类化合物，其特征在于：其结构通式如式Ⅰ或Ⅱ所示，

其中，R1，R2为卤素、卤代烃或烷氧基，Bpin为

2.根据权利要求1所述的芳烃硼酸酯类化合物，其特征在于：所述芳烃硼酸酯类化合物的结构式中，

R1为F、Cl、C1～C4烷氧基或三氟甲基，R2为F、Cl、三氟甲基、C1～C4烷氧基、甲氧基甲醚。

3.根据权利要求1所述的芳烃硼酸酯类化合物，其特征在于：

结构式Ⅰ中R1=F，R2=F、三氟甲基、C1～C4烷氧基；R1=Cl，R2=Cl、C1～C4烷氧基或三氟甲基；R1=C1～C4烷氧基，R2=三氟甲基；

结构式Ⅱ中R1=Cl或三氟甲基，R2=三氟甲基。

4.根据权利要求1所述的芳烃硼酸酯类化合物，其特征在于，选自以下式化合物之一：

5.权利要求1所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于，步骤包括：

1）、在-70～-80℃、氮气或惰性气体保护下，在无水有机溶剂中加入如式Ⅲ所示的1,3二取代芳烃，再依次加入TMEDA、DIPA，搅拌5-15分钟；在体系中加入锂碱后反应1-2小时，再加入亲电试剂，升温至20-30℃；

式Ⅲ中的R1为F、Cl、C1～C4烷氧基或三氟甲基，R2为F、Cl、三氟甲基、C1～C4烷氧基或甲氧基甲醚。

所述亲电试剂是异丙醇频哪醇硼酸酯或联硼酸频那醇酯；

2）、在步骤（1）中的反应体系中加入饱和氯化铵溶液进行淬灭反应，萃取、干燥、分离即可。

6.根据权利要求3所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于：所述步骤（1）中，无水有机溶剂、1,3-二取代芳烃、TMEDA及DIPA的加入量配比为2-5mL：1mmol：1.1mmol：0.05mmol。

7.根据权利要求3所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于：所述步骤（1）中，1,3二取代芳烃、锂碱及亲电试剂的摩尔比为1：1.1：1。

8.根据权利要求3或4所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于：所述步骤（1）中的无水有机溶剂为无水四氢呋喃，锂碱为正丁基锂。

9.根据权利要求3所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于：所述步骤（2）中，萃取剂为乙酸乙酯，萃取剂与1,3二取代芳烃的加入量比为7-15mL：1mmol；反应体系中的加入的饱和氯化铵溶液与无水有机溶剂的体积为1-2:1。

10.根据权利要求5、6、7或9所述的芳烃硼酸酯类化合物的合成方法，其特征在于：所述1,3二取代芳烃为间二氟苯、三氟氯苯、间氟三氟甲苯、间甲氧基甲醚氟苯、间甲氧基苯氟、间二氯苯、间甲氧基氯苯、间甲氧基甲醚氯苯、间三氟甲基甲氧基苯、间氯三氟甲苯、间二-三氟甲苯中的一种。