[发明专利]半导体装置及半导体模块在审
申请号: | 201410053381.X | 申请日: | 2014-02-17 |
公开(公告)号: | CN104465578A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 久里裕二;关谷洋纪;佐佐木遥;小谷和也;田多伸光;松村仁嗣;井口知洋 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 模块 | ||
1.一种半导体装置,具备:
半导体元件,具有第1面以及与第1面相反的一侧的第2面;和
含铬(Cr)的金属膜,设置在上述半导体元件的上述第2面。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述半导体元件含有动作确保温度比硅(Si)的动作确保温度高的材料。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
上述材料含有硅碳化物(SiC)及氮化镓(GaN)中的某1种。
4.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
上述金属膜具有:
含铬(Cr)的第1膜,设置在最表面侧;和
第2膜,设置在上述第1膜与上述第2面之间。
5.根据权利要求4所述的半导体装置,其中,
上述第2膜含有从由钛(Ti)、铝(Al)、金(Au)、锡(Sn)、镍(Ni)、银(Ag)构成的组中选择的至少1种。
6.根据权利要求4所述的半导体装置,其中,
上述第2膜是多层膜,上述多层膜中的至少1个膜含有从由钛(Ti)、铝(Al)、金(Au)、锡(Sn)、镍(Ni)、银(Ag)构成的组中选择的至少1种。
7.一种半导体模块,具备:
半导体装置,包括具有第1面及与第1面相反的一侧的第2面的半导体元件、以及设置在上述半导体元件的上述第2面上且含铬(Cr)的金属膜;
基板,具有导体图案;以及
接合件,设置在上述金属膜与上述导体图案之间。
8.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
上述导体图案含有铜(Cu)。
9.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
上述接合件含有锡(Sn)或银(Ag)。
10.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
还具备中间层,该中间层设置在上述金属膜与上述导体图案之间,具有比上述导体图案的导热系数低的导热系数。
11.根据权利要求10所述的半导体模块,其中,
上述中间层含有不锈钢。
12.根据权利要求10所述的半导体模块,其中,
上述中间层具有中间部件和一对外侧部件,
上述中间部件由上述一对外侧部件夹持,
上述中间部件含有上述不锈钢,
上述外侧部件含有镍(Ni)。
13.根据权利要求10所述的半导体模块,其中,
在上述中间层的一部分设置有中空部。
14.根据权利要求13所述的半导体模块,其中,
上述中间层具有中间部件和一对外侧部件,
上述中间部件由上述一对外侧部件夹持,
在上述中间部件上设置有上述中空部。
15.根据权利要求14所述的半导体模块,其中,
上述中空部是设置在上述中间部件的孔。
16.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
上述半导体元件含有动作确保温度比硅(Si)的动作确保温度高的材料。
17.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
上述材料含有硅碳化物(SiC)及氮化镓(GaN)中的某1种。
18.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,
上述金属膜具有:
含铬(Cr)的第1膜,设置在最表面侧;和
第2膜,设置在上述第1膜与上述第2面之间。
19.根据权利要求18所述的半导体模块,其中,
上述第2膜含有从由钛(Ti)、铝(Al)、金(Au)、锡(Sn)、镍(Ni)、银(Ag)构成的组中选择的至少1种。
20.根据权利要求18所述的半导体模块,其中,
上述第2膜是多层膜,上述多层膜中的至少1个膜含有从由钛(Ti)、铝(Al)、金(Au)、锡(Sn)、镍(Ni)、银(Ag)构成的组中选择的至少1种。
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