[发明专利]狭缝喷嘴及使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备在审
申请号: | 201410053532.1 | 申请日: | 2014-02-17 |
公开(公告)号: | CN104174547A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 金哲弘;李濬燮;全笔句;黄元炯 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;全成哲 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 狭缝 喷嘴 使用 设备 | ||
提供了一种狭缝喷嘴及使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备。所述狭缝喷嘴包括:第一喷嘴主体部分;以及第二喷嘴主体部分,被安装为以预定间隔与第一喷嘴主体部分分隔开并且在第一喷嘴主体部分和第二喷嘴主体部分之间设置有分隔构件,从而使涂覆液通过其排出的狭缝形的开口形成在第一喷嘴主体部分和第二喷嘴主体部分之间。在该狭缝喷嘴中,第二喷嘴主体部分包括与第一喷嘴主体部分的一个区域一起形成所述开口的台部,台部的中央部分在涂覆液的排出方向上的长度被形成为比台部的每个端部在涂覆液的排出方向上的长度长。因此,能够防止排出的涂覆液在狭缝喷嘴的宽度方向上的流速不均匀性,从而使基体材料的涂覆失败最少化。
本申请要求于2013年5月24日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0058854号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用被全文包含于此。
技术领域
本发明的一方面涉及一种狭缝喷嘴及一种使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备,更具体地说,涉及一种能够使涂覆液从其均匀排出的狭缝喷嘴及一种使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备。
背景技术
具有各种形式和方法的涂覆设备存在于若干工业中,包括半导体制造领域、液晶显示器领域、电池领域等。在这些涂覆设备中,通过狭缝形的喷嘴将涂覆液以表面形状均匀地涂覆的狭缝涂覆设备被用作具有高生产速度和优良品质的涂覆设备。
涂覆液在狭缝喷嘴上的注射在狭缝喷嘴的中央处执行。在这种情况下,在根据狭缝喷嘴的宽度方向上的长度的坐标处,在宽度方向上的涂覆液分别做不同的运动。因此,如果涂覆液在狭缝喷嘴中的流动方向不是无限长的,则涂覆液的排出压力根据狭缝喷嘴的宽度方向是不相等的,因此,排出的涂覆液的流速沿狭缝喷嘴的宽度方向变得不相等。当涂覆液涂覆在基体材料上时,这种不均匀性引起工艺失败。
此外,当狭缝喷嘴的宽度方向上的长度加长时,这种不均匀性变得更严重。然而,狭缝喷嘴的宽度方向上的长度应该被加长,以增加其上涂覆有涂覆液的基体材料的产量。因此,需要防止排出的涂覆液在宽度方向上的流速不均匀性随着狭缝喷嘴的宽度方向上的长度的加长而增加。
发明内容
实施例提供一种可以防止排出的涂覆液在狭缝喷嘴的宽度方向上的流速不均匀性的狭缝喷嘴及使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备。
根据本发明的一方面,提供一种狭缝喷嘴,所述狭缝喷嘴包括:第一喷嘴主体部分;以及第二喷嘴主体部分,被安装为以预定间隔与第一喷嘴主体部分分隔开并且在第一喷嘴主体部分和第二喷嘴主体部分之间设置有分隔构件,从而使涂覆液通过其排出的狭缝形的开口形成在第一喷嘴主体部分和第二喷嘴主体部分之间,其中,第二喷嘴主体部分包括与第一喷嘴主体部分的一个区域一起形成所述开口的台部,台部的中央部分在涂覆液的排出方向上的长度被形成为比台部的每个端部在涂覆液的排出方向上的长度长。
台部的中央部分的所述长度和台部的每个端部的所述长度之间的差可以是使用下述因素中的至少一个所确定的值:在涂覆液进入到台部上之前在宽度方向上的压力差、涂覆液的平均排出流速、所述开口的高度和涂覆液的绝对粘度。
平均排出流速可以是使用下述因素中的至少一个所确定的值:涂覆液的涂覆厚度、所述开口的高度和将涂覆液涂覆于其上的基体材料的移动速度。
在台部的宽度方向上的压力差可以是指涂覆液进入到台部的中央部分上之前的压力和涂覆液进入到台部的每个端部上之前的压力之间的差。
在台部的宽度方向上的压力差可以是使用下述因素所确定的值:台部的参考宽度、根据参考宽度预先计算出的在宽度方向上的压力差和台部的在宽度方向上的长度。
第二喷嘴主体部分还可以包括入口,涂覆液通过所述入口流到第二喷嘴主体部分中。
第二喷嘴主体部分可以包括临时储存涂覆液并形成在台部和所述入口之间的空腔。
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