[发明专利]一种改性水滑石稳定的AKD乳液施胶剂及其制备方法

权利要求书

1.一种改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，其特征在于，由氨基酸原位插层水滑石、聚乙烯亚胺和去离子水组成的水相，和AKD组成；

AKD与水相的质量比为1:5～10；

氨基酸原位插层水滑石与AKD的质量比为1:50～200；

聚乙烯亚胺与AKD的质量比为1:100～1000。

2. 根据权利要求1所述的改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，其特征在于，AKD与水相的质量比优1：8；氨基酸原位插层水滑石与AKD的质量比为1：100；聚乙烯亚胺与AKD的质量比为1：400。

3.根据权利要求1所述的改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，其特征在于，所用的氨基酸原位插层水滑石是以氨基酸、镁盐、铝盐和氢氧化钠为原料，采用共沉淀法反应而成；具体操作步骤为：

将氨基酸、镁盐、铝盐和氢氧化钠分别用去离子水溶解，获得水溶液；

在搅拌条件下，将上述水溶液同时滴加到反应釜中，反应釜中含有80℃、pH为10的去离子水；

滴加完毕后，保温老化24 h，得粗产物；

粗产物经过滤、洗涤，得到氨基酸原位插层水滑石；

其中，氨基酸与镁盐的摩尔比为1:3～9，氨基酸与铝盐的摩尔比为1:1～3。

4. 根据权利要求3所述的改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，其特征在于，氨基酸镁盐的摩尔比为1：6。

5.一种权利要求1～4中任意一项所述的改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

氨基酸原位插层水滑石加去离子水形成水滑石溶胶，聚乙烯亚胺加去离子水形成水溶液，将水滑石溶胶和聚乙烯亚胺水溶液混合形成水相；

将水相与固体AKD蜡片分别加热到AKD的熔点以上；

在搅拌条件下，将熔融后的AKD与加热后的水相混合，提高搅拌速度搅拌至均匀，然后冷却，得AKD乳液施胶剂。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，将水相的温度加热到60～70^oC；将AKD加热到60～70 ^oC。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，将水相与熔融AKD的混合，是将水相加入到熔融的AKD中。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在加热的水相与熔融AKD的混合过程中，要求混合搅拌速度在100～200 r/min之间，混合时间在1～2 min。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述的提高搅拌速度，是指将搅拌速度提高到 10000～12000 r/min之间，搅拌时间控制在8～12 min。