[发明专利]全氢喹喔琳衍生物

权利要求书

1.如下所示通式(1)的化合物和/或其外消旋物、对映异构体、非对映异构体或其药学上可接受的盐：

其中:

R¹选自H;C₁-C₁₀-烷基;C₁-C₆-烷氧羰基;

具有C₁-C₆-烷基的苯基烷基，其中苯基可被以下基团取代：C₁-C₆-烷氧基；C₁-C₁₀-酰基;苯基酰基,其中酰基是C₁-C₆-酰基;

含有一个或两个包含N的杂原子的单环杂芳基烷基，其中烷基是C₁-C₆烷基；

C(O)-(CH₂)_q-COOH,其中q是0、1、2、3或4;C(O)-(CH₂)_r-COO(C₁-C₁₀-烷基),其中r是0、1、2、3或4;

R²,R³R²和R³与它们所结合的氮一起形成饱和的3元至8元N-杂环，其中该杂环可被OH取代;

A为CH₂)_n,其中n是1;

Z选自苯基,它可被一个或多个相同或不同的卤素取代。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物具有如下通式(2)：

其中:

R¹选自H;C₁-C₁₀-烷基;C₁-C₆-烷氧羰基;

具有C₁-C₆-烷基的苯基烷基，其中苯基可被以下的基团取代：C₁-C₆-烷氧基；C₁-C₁₀-酰基;苯基酰基;

含有一个或两个包含N的杂原子的单环杂芳烷基，且烷基为C₁-C₆-烷基;

C(O)-(CH₂)_q-COOH,其中q是1或2;C(O)-(CH₂)_r-COO(C₁-C₁₀-烷基),其中r是1;

X¹,X²在所有情况下是相同的或彼此独立的，且选自H、OH;

Y¹,Y²在所有情况下是相同的或彼此独立的，且选自H、卤素。

3.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，所述化合物具有以下通式(3)：

其中:

R¹选自H;C₁-C₅-烷基;

C₁-C₅-酰基;苯酰基;COO(C₁-C₅-烷基);C(O)-(CH₂)_q-COOH,其中q是1或2;和/或C(O)-(CH₂)_r-COO(C₁-C₅-烷基),其中r是1;

X³选自H或OH。

4.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物包括包含下式(1a)和/或(1b)的对映异构体的混合物：

5.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物具有下式(4)：

6.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述化合物具有下式(6)：

7.如权利要求1所述的化合物在制备药物中的应用。