[发明专利]一种基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法

权利要求书

1.一种基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于所述制备方法包括如下步骤：a、选取基底；b、在所选基底上形成聚合物薄膜，并进行烘干处理，得到该聚合物薄膜的厚度为5100nm；c、在步骤b所得的聚合物薄膜上形成金属薄膜，其厚度为220nm；d、采用原子力显微镜在步骤c所得的金属薄膜表面进行图案化扫描；e、将步骤d所得的产物加热至所述聚合物薄膜的玻璃化转变温度。

2.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：所述步骤b中聚合物薄膜的厚度优选为510nm。

3.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：所述步骤b中的聚合物薄膜材料为聚苯乙烯。

4.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：所述步骤b中的烘干处理温度为聚合物玻璃化转化温度，或者低于聚合物玻璃化转化温度。

5.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：所述步骤c中的金属薄膜材料为锡或银。

6.根据权利要求4所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：在所述步骤c中采用真空气相沉积法制备锡薄膜或者银薄膜。

7.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：在所述步骤d中采用原子力显微镜的悬臂梁对金属表面进行图案扫描。

8.根据权利要求1所述的基于褶皱的金属表面纳米结构制备方法，其特征在于：所述步骤a中的基底为载玻片、单晶硅片、石英玻璃、导电玻璃或者普通玻璃。