[发明专利]一种地瓜盆景栽培方法无效

专利信息
申请号: 201410058984.9 申请日: 2014-02-21
公开(公告)号: CN103782784A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 林金俗;谢承昌;王文吉;周灼能 申请(专利权)人: 福建八马茶业有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 362400 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 地瓜 盆景 栽培 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种植物盆景的栽培方法,尤其涉及一种地瓜盆景的栽培方法。 

背景技术

现有地瓜的栽培方法一般采用土壤栽培,采用土壤栽培的地瓜一般用于食用,且虫害较多,需及时防治蚜虫、番薯卷叶虫、斜纹夜蛾、金龟子等害虫。且田间土壤生长的地瓜经过风吹日晒,长出的瓜叶及其不美观,不适宜观赏。 

发明内容

本发明目地在于培育一种可供观赏的地瓜盆景,本发明涉及一种地瓜盆景栽培方法,简单、便宜,具体包括如下步骤: 

(1)选择地瓜品种; 

(2)备好水盆,将地瓜洗净后放入盆内; 

(3)地瓜放入盆内后注入水; 

(4)地瓜放入盆内3天后,观察水盆底部是否需要加水和地瓜的生长情况; 

(5)继续观察地瓜的生长情况数十天; 

(6)待数十天后,地瓜长出芽,移入盆栽盆,在盆栽盆中加入适当的水; 

(7)待地瓜全部长出芽后,注意防虫。培育地瓜的过程中,将地瓜放在通风处,适当吸取阳光。 

进一步地特征在于: 

所述步骤(1)的地瓜品种尽量选择选择肥沃的地瓜,成活率较高,优选地,每个地瓜重量大于或等于500克; 

所述步骤(3)注入盆内的水覆盖整个地瓜的九分之一至九分之二; 

所述步骤(5)观察地瓜的生长情况,若当地瓜底部出现腐烂的情况,可将地瓜换一边不腐烂的部分浸入水中,然后继续培育; 

所述步骤(5)观察地瓜生长情况的时间为20~40天; 

所述步骤(6)加入盆栽盆中的水量为覆盖地瓜底部的十分之一至十分之三; 

所述步骤(1)、(4)、(6)中加入的水为矿物质水,每升水含钾离子30mg,含钙离子45mg,含钠离子60mg,含镁离子70mg,保证地瓜生长所需的营养。 

本发明的优点是:该技术简单,制作成本低。制作的地瓜盆景造型美观,适合观赏之用。 

具体实施方式

为了进一步解释本发明的技术方案,下面通过具体实施例来对本发明做进一步的阐释。 

实施例1 

本发明公开了一种地瓜盆景的制作方法,包括以下步骤: 

1)取一个肥沃的600g的地瓜,洗干净; 

2)取一个水盆,将洗干净的地瓜放入盆内; 

3)在盆内注入少许的水,水覆盖至地瓜底部的九分之一; 

4)放入3天后,看底部是否需要加水,地瓜是否有长出芽根; 

5)如果地瓜长出芽根,继续观察30天。若地瓜底部有点腐烂,可换地瓜不腐烂的一边培养; 

6)待30天后,地瓜长出芽,即可移入盆栽盆。此时注入水分在底部的十分之二; 

7)待地瓜全部长出芽后,注意防虫; 

8)培育地瓜的过程中,注意不要暴晒阳光,放在通风处,适当吸取阳光即可。 

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