[发明专利]光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法

权利要求书

1.一种共聚物，其包含以下物质的聚合产物：

具有式(I)的酸-可脱保护单体和共聚单体：

其中

c是0、1、2、3、4或5，

R^a是H,F,-CN,C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；

R^x是未取代的或取代的C_1-10线型或支化的烷基、未取代或取代的C_3-10环烷基、未取代或取代的C_3-10烯基烷基、或未取代或取代的C_3-10炔基烷基，其中R^x和R^y一起任选地形成环；

R^y是氟取代的C_3-6线型烷基；和

R^z是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C_6-20芳基，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C₃-C₂₀杂芳基，其中C_6-20芳基基团或C₃-C₂₀杂芳基可任选地被进一步取代。

2.如权利要求1的共聚物，其特征在于，所述c是1、2、3、4或5。

3.如权利要求1或2的共聚物，其特征在于，所述酸-可脱保护单体含有至少两个除丙烯酸酯以外的酸-可脱保护基团。

4.如权利要求1或2的共聚物，其特征在于，所述R^z是：

5.如权利要求4的共聚物，其特征在于，所述R^a是氢或甲基。

6.如权利要求1的共聚物，其特征在于，所述酸-可脱保护单体是：

或其组合。

7.如权利要求1、2或6的任一共聚物，其特征在于，所述共聚单体包括以下单体中的至少一种：

具有式(II)的酸-可脱保护单体、式(III)的含内酯单体、式(IV)的碱溶性单体、式(V)的光致生酸单体：

其中

各R^a独立地是H,F,-CN,C_1-10烷基或C_1-10氟烷基，

各R^b独立地是C_1-20烷基、C_3-20环烷基、C_6-20芳基、C_3-20杂芳基、或C_7-20芳烷基，各R^b是分隔开的或者至少一个R^b与相邻的R^b键合形成环状结构，

L是单环、多环或稠合多环的C_4-20含内酯基团，

W是卤代或非卤代的、芳族或非芳族C_2-50含羟基有机基团，其pKa小于或等于12，

Q是含酯基或不含酯基的氟代或非氟代C_1-20亚烷基、C_3-20环亚烷基、C_6-20亚芳基或C_7-20亚芳烷基，

A是含酯基或不含酯基的氟代或非氟代C_1-20亚烷基、C_3-20环亚烷基、C_6-20亚芳基或C_7-20亚芳烷基，

Z是含有磺酸根的阴离子部分，或磺酰亚胺的阴离子，和

G⁺是锍阳离子或碘鎓阳离子。

8.一种包含如权利要求1、2或6任一项所述的共聚物的光刻胶组合物。

9.一种形成电子器件的方法，其包括：(a)在基材上施加如权利要求8所述的光刻胶组合物层；(b)以图案化方式将所述光刻胶组合物层曝光于活化辐射；以及(c)对经曝光的光刻胶组合物层进行显影，以提供光刻胶浮雕图像。

10.如权利要求9的方法，其特征在于，所述活化辐射是远紫外辐射或电子束辐射。