[发明专利]一种单端孢霉烯族类毒素分子印迹聚合物的制备方法有效
申请号: | 201410063390.7 | 申请日: | 2014-02-23 |
公开(公告)号: | CN104059195A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 李澧 | 申请(专利权)人: | 江苏省农业科学院 |
主分类号: | C08F230/06 | 分类号: | C08F230/06;C08F220/20;C08F222/38;C08F290/06;C08F2/48;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 210014 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单端孢霉烯 族类 毒素 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
1.一种单端孢霉烯族类毒素分子印迹聚合物的制备方法,所述单端孢霉烯族类毒素为顺势二羟基结构,其特征在于,该方法包括如下步骤:
(1)配置预聚液:以含双键的取代苯硼酸作为功能单体,以单端孢霉烯族类毒素作为模板分子,在碱性条件下,使得所述模板分子与所述功能单体混合均匀并形成共价复合物,再加入含双烯键的交联剂、致孔剂,紫外光引发剂或热引发剂,进一步混合均匀,得到的溶液作为预聚液;
(2)制得聚合物:针对所述预聚液,通过紫外光照射进行光引发或者通过热聚进行热引发,引发功能单体与交联剂之间、交联剂与交联剂之间的聚合反应从而形成聚合物;
(3)制得分子印迹聚合物:用酸性溶液提取清除聚合物中的模板分子,得到含有与顺势二羟基可逆结合的苯硼酸位点以及与模板分子形状相互补的、空腔的分子印迹聚合物。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中:优选的,所述模板分子与所述功能单体的质量比为1∶10-1∶1000,所述碱性条件为pH值大于等于7.5,所述交联剂与致孔剂的体积比为1∶2-1∶10,所述交联剂与所述功能单体的质量比为1∶1-1∶100。
3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,所述通过紫外光照射进行光引发具体包括如下步骤:将预聚液滴入某容器中,或涂覆在衬底表面、并在其上覆盖掩膜板,在紫外光下曝光5-120s,透光部分因紫外光照射诱发而聚合,而被遮挡的部分则不聚合。
4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,所述通过热聚进行热引发具体包括如下步骤:将预聚液滴入某容器或涂覆在衬底表面,然后置于水浴中或加热台上,温度为50-120℃的条件下加热1-24小时。
5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)之后步骤(3)之前,还进一步包括如下步骤:用清洗溶剂来清洗除去所述聚合物中的未聚合部分,所述清洗溶剂为乙腈-水溶液或甲醇-水溶液。
6.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中的酸性溶液为pH值小于等于5的乙腈-水溶液或甲醇-水溶液。
7.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
所述的单端孢霉烯族类毒素为呕吐毒素、F-2毒素或T-2毒素;
所述的取代苯硼酸是对乙烯基苯硼酸、间乙烯基苯硼酸或间丙烯酰胺基苯硼酸;
所述的交联剂可以是聚乙二醇双丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯和甲叉双丙烯酰胺;
所述紫外光引发剂是安息香二甲醚、偶氮二异丁腈、1-羟基环己基苯基酮Irgacure184或安息香乙醚;
所述的热引发剂是偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、过氧化甲乙酮、过氧化环己酮或偶氮二异丁酸二甲酯;
所述的致孔剂是聚乙二醇、1,4丁二醇或十二醇。
8.如权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述掩膜板为多孔、每个孔均含圆环状结构的掩膜板,从而使得预聚液在紫外光照射诱发而聚合后,通过该掩膜板得到多孔的、环状、聚合物,且聚合物沿着每个孔的外边缘,每个孔的中心则成为空白的区域,所述空白的区域有利于后期的检测。
9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于:优选的,所述多孔选择96孔。
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