[发明专利]粘合片以及磁盘装置有效
申请号: | 201410064499.2 | 申请日: | 2014-02-25 |
公开(公告)号: | CN104004465A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 古田宪司;中平理惠;古田喜久;池田功一 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;B32B15/08;G11B5/48 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合 以及 磁盘 装置 | ||
技术领域
本发明涉及粘合片以及磁盘装置。
背景技术
如专利文献1所示,已知具备用于收纳磁盘等的上方开口的箱状基底部和以嵌入该开口边缘的内侧的形式安装到所述基底部上的板状的盖部的磁盘装置。
这种磁盘装置的构成为盖部以所谓的小锅盖(落とし蓋)的状态堵塞基底部的开口。因此,在基底部的开口边缘与盖部的周缘之间形成细间隙(接缝)。
该间隙成为湿气、硅氧烷化合物(例如环状硅氧烷)等异物从外部进入磁盘装置内部的路径。湿气、硅氧烷化合物等异物能够造成磁盘装置的故障,因此期望尽可能不使其进入装置内。
因此,以完全覆盖磁盘装置的表侧的形态粘贴称为盖密封等的粘合片以堵塞所述间隙。具体而言,跨越基底部的开口边缘和盖部的周缘粘贴粘合片的周缘部分,由此成为堵塞所述间隙的形态。
试图通过使用这样的粘合片堵塞上述的间隙等而确保磁盘装置内的气密性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-190412号公报
发明内容
发明所要解决的问题
这种粘合片在对磁盘装置等被粘物进行粘贴时,有时产生褶皱,从而成为问题。
例如,被粘物为上述构成的磁盘装置时,有时以横穿所述间隙的方式跨越基底部的开口边缘和盖部的周缘形成褶皱。该褶皱形成为粘合片局部隆起而折弯成山状的形状,成为磁盘装置的外部与所述间隙之间连通的通道的结构。即,这样的褶皱形成将湿气、硅氧烷化合物等异物引入磁盘装置内的路径,导致损害磁盘装置内的气密性。
粘合片上形成这样的褶皱时,需要将该粘合片剥离,并且在磁盘装置上重新粘贴另一片新的粘合片。
本发明的课题在于解决以往的前述各问题,实现以下目的。即,本发明的目的在于提供在粘贴到被粘物时抑制褶皱产生的粘合片。
另外,本发明的目的在于提供粘贴有包含上述粘合片的盖密封的磁盘装置。
用于解决问题的手段
本发明人为了实现前述目的进行了广泛深入的研究,结果发现,具有包含金属层和以夹着该金属层的方式配置的一对塑料薄膜层A及塑料薄膜层B的基材和层叠在所述基材中所述塑料薄膜层B侧的面上的粘合剂层,所述金属层的厚度为2μm~15μm,所述塑料薄膜层A的厚度Ta与所述塑料薄膜层B的厚度Tb的合计为25μm~70μm的粘合片在粘贴到被粘物时可以抑制褶皱的产生,并且完成了本发明。
前述粘合片中,优选所述基材的总厚度为40μm~90μm。
前述粘合片中,优选所述厚度Ta大于所述厚度Tb。
前述粘合片中,优选所述厚度Ta与所述厚度Tb之比(Ta/Tb)为1.5~7.0。
前述粘合片中,优选所述厚度Ta与所述厚度Tb之比(Ta/Tb)为2.0~4.0。
前述粘合片优选作为磁盘装置用的盖密封使用。
前述粘合片优选在磁盘装置中作为所述盖密封使用,
所述磁盘装置具有:
磁盘单元,所述磁盘单元包含磁盘,
磁头单元,所述磁头单元包含对所述磁盘进行信息读写的磁头,
基底部,所述基底部形成朝一个方向开口的箱状,包含围绕所述开口的框状端部,并且在内部容纳所述磁盘单元和所述磁头单元,
盖部,所述盖部以其外周缘由所述框状端部的内周缘围绕的形式、以将所述开口覆盖的方式安装在所述基底部上,和
盖密封,所述盖密封以将所述框状端部的内周缘与所述盖部的外周缘之间形成的间隙堵塞的方式,跨越所述框状端部和所述盖部进行粘贴。
本发明的磁盘装置具有:
磁盘单元,所述磁盘单元包含磁盘,
磁头单元,所述磁头单元包含对所述磁盘进行信息读写的磁头,
基底部,所述基底部形成朝上方开口的箱状,包含围绕所述开口的框状端部,并且在内部容纳所述磁盘单元和所述磁头单元,
盖部,所述盖部以其外周缘由所述框状端部的内周缘围绕的方式、以将所述开口覆盖的形式安装在所述基底部上,和
由前述粘合片构成的盖密封,所述盖密封以将所述框状端部的内周缘与所述盖部的外周缘之间形成的间隙堵塞的方式,跨越所述框状端部和所述盖部进行粘贴。
发明效果
根据本发明,可以解决以往的前述各问题,可以提供在粘贴到被粘物时抑制褶皱产生的粘合片。另外,根据本发明,可以提供粘贴有由上述粘合片构成的盖密封的磁盘装置。
附图说明
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