[发明专利]一种薄壁陶瓷管的烧结装置在审
申请号: | 201410071896.2 | 申请日: | 2014-02-28 |
公开(公告)号: | CN103884176A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 宋春军;秦晓英;辛红星;张建;李地;刘永飞;李亮亮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | F27B5/04 | 分类号: | F27B5/04;F27B5/06 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230031 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄壁 陶瓷 烧结 装置 | ||
1.一种薄壁陶瓷管的烧结装置,包括由炉体、设置在炉体内底部上的底座构成的高温炉,其特征在于:所述底座上设置有一个或多个保护装置,每个保护装置分别由放置在底座上的保护底座、口下底上倒扣在保护底座上的保护坩埚构成,且保护坩埚与保护底座形成密闭空间,每个保护装置内分别设置有一个或多个烧结坯体,每个烧结坯体分别由烧结底座坯体、烧结陶瓷管坯体构成,所述烧结底座坯体被保护坩埚罩住并放置在保护底座上,所述烧结陶瓷管坯体以口下底上的方式放置于烧结底座坯体上。
2.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:每个烧结坯体中,烧结底座坯体具有圆片形状。
3.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:烧结底座坯体顶部设置有单个圆形凹槽或单圈圆环凹槽,所述烧结陶瓷管坯体其口部置于圆形凹槽或圆环凹槽中。
4.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:烧结底座坯体顶部设置有至少两圈同心的圆形凹槽,烧结陶瓷管坯体有至少两个,且烧结陶瓷管坯体直径依次增大,直径较大的烧结陶瓷管坯体依次共中心轴套在直径较小的烧结陶瓷管坯体外,其中直径最小的烧结陶瓷管坯体其口部置于烧结底座坯体最内圈的圆形凹槽中,其余烧结陶瓷管坯体各自口部分别一一对应置于烧结底座坯体其余圆形凹槽中。
5.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:烧结底座坯体顶部设置有至少两圈同心的圆环凹槽,烧结陶瓷管坯体有至少两个,且烧结陶瓷管坯体直径依次增大,直径较大的烧结陶瓷管坯体依次共中心轴套在直径较小的烧结陶瓷管坯体外,其中直径最小的烧结陶瓷管坯体其口部置于烧结底座坯体最内圈的圆环凹槽中,其余烧结陶瓷管坯体各自口部分别一一对应置于烧结底座坯体其余圆环凹槽中。
6.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:烧结底座坯体顶部设置有至少两个同心分布的圆形凹槽和圆环凹槽,烧结陶瓷管坯体有至少两个,且烧结陶瓷管坯体直径依次增大,直径较大的烧结陶瓷管坯体依次共中心轴套在直径较小的烧结陶瓷管坯体外,烧结陶瓷管坯体各自口部分别一一对应置于烧结底座坯体圆形或圆环凹槽中。
7.根据权利要求3或4或6所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:所述圆形凹槽的直径大于口部放入的烧结陶瓷管坯体的外径。
8.根据权利要求3或5或6所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置:其特征在于:所述圆环凹槽的外径大于口部放入的烧结陶瓷管坯体的外径,圆环凹槽的内径小于口部放入的烧结陶瓷管坯体的内径。
9.根据权利要求1所述的一种薄壁陶瓷管的烧结装置,其特征在于:所述保护底座为圆片形状,保护底座顶部可设置供保护坩埚口部扣上的凸台,或者是供保护坩埚口部扣入的凹槽,且保护坩埚口部与保护底座之间接触面经过抛光加工。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院合肥物质科学研究院,未经中国科学院合肥物质科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410071896.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。