[发明专利]一种镀膜玻璃及其应用在审

专利信息
申请号: 201410073394.3 申请日: 2014-02-28
公开(公告)号: CN104875444A 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: 易镜明 申请(专利权)人: 易镜明
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 523073 广东省东莞市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 玻璃 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种镀膜玻璃,包括玻璃基片和在所述玻璃基片一表面层叠结合的第一介质层,其特征在于:所述第一介质层外表面层叠结合至少一个功能单元,所述每一功能单元由邻近所述第一介质层向外依次层叠结合有第一抗氧化层、第一功能层、第二抗氧化层和第二介质层,其中,所述第一介质层和所述第二介质层均为掺杂金属的碳化硅膜层。

2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述掺杂金属的碳化硅膜层中金属的重量百分含量为0.5~18%。

3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述功能单元的数量为1~3个。

4.根据权利要求1~3任一项所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第一抗氧层和所述第二抗氧层的材质均为镍铬合金。

5.根据权利要求1~3任一项所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第一功能层为金层、银层、铜层、铝层中的任一种。

6.根据权利要求5所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第一功能层为银层。

7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述掺杂金属碳化硅膜层是采用掺杂铝-碳化硅为靶材以真空磁控溅射镀膜而成。

8.根据权利要求7所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述真空磁控溅射镀膜的工艺条件为:惰性气体流量约600-800SCCM,反应气体流量为20-30SCCM,真空度为3.3×10-3mba,溅射电压低于680V。

9.根据权利要求7所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述靶材的结构为平面靶或旋转靶。

10.如权利要求1~9任一所述的镀膜玻璃在建筑镀膜产品中的应用。

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