[发明专利]光学处理系统

权利要求书

1.一种光学处理系统，其特征在于，用于在一像平面上产生一图像图案，该光学处理系统包括：

至少一图像产生单元，该图像产生单元包括：

一发光单元模块，用于发出一图像光束，且包括多个非线性排列或者排成阵列的发光单元；

一成像镜头，配置于该图像光束的传递路径上，且用于将该图像光束投射于该像平面上；以及

一光学扫描单元，配置于该图像光束的传递路径上，且用于使该图像光束扫描该像平面，以产生该图像图案。

2.根据权利要求1所述的光学处理系统，其特征在于，还包括一控制单元，电性连接至该图像产生单元及该光学扫描单元，其中当该控制单元命令该光学扫描单元将该图像光束移动至该像平面的一位置时，该图像光束在该像平面上的一区域产生一区域图像，且当该控制单元命令该光学扫描单元将该图像光束移动至该像平面的不同位置时，该图像光束在该像平面上的不同区域分别产生多个区域图像，且该些区域图像叠合成该图像图案。

3.根据权利要求1或2所述的光学处理系统，其特征在于，该光学扫描单元包括：

一第一振镜，配置于该图像光束的传递路径上，且适于绕着一第一轴线摆动；以及

一第二振镜，配置于来自该第一振镜的该图像光束的传递路径上，且适于绕着一第二轴线摆动，

该发光单元模块中的该些发光单元为自发光式光源，由该自发光式光源所发出的该图像光束通过该第一振镜与该第二振镜的摆动而改变该图像光束在该像平面上的相对照射位置。

4.根据权利要求1或2所述的光学处理系统，其特征在于，该扫描单元包括一振镜，配置于该图像光束的传递路径上，且适于在两个维度上摆动，该发光单元模块中的该些发光单元为自发光式光源，由该自发光式光源所发出的该图像光束通过该振镜的摆动而改变该图像光束在该像平面上的相对照射位置。

5.根据权利要求1或2所述的光学处理系统，其特征在于，还包括一载台，位于该像平面处，且用于承载一待处理物，该载台适于移动或通过一致动器推动该载台使该图像光束扫描该像平面上的该待处理物。

6.一种光学处理系统，其特征在于，用于在一像平面上产生一图像图案，该光学处理系统包括：

至少一图像产生单元，该图像产生单元包括：

一发光单元模块，用于发出一图像光束，且包括多个非线性排列或者排成阵列的发光单元；

一成像镜头，配置于该图像光束的传递路径上，且用于将该图像光束投射于该像平面上；以及

一载台，该像平面位于该载台上，该载台用于承载一待反应物，该载台适于移动或通过一致动器推动该像平面，使该图像光束扫描该像平面，以在该像平面上产生该图像图案。

7.根据权利要求6所述的光学处理系统，其特征在于，还包括一控制单元，电性连接至该图像产生单元及该载台或该致动器，其中当该控制单元命令该载台或该致动器使该图像光束照射到该像平面的一位置时，该图像光束在该像平面上的一区域产生一区域图像，且当该控制单元命令该载台或该致动器使该图像光束照射到该像平面的不同位置时，该图像光束在该像平面上的不同区域分别产生多个区域图像，且该些区域图像叠合成该图像图案。

8.根据权利要求1或2或6或7所述的光学处理系统，其特征在于，该图像光束沿着一第一方向扫描该像平面，或该图像光束沿着该第一方向及一不同于该第一方向的第二方向扫描该像平面，其中该第一方向与该第二方向构成该像平面。

9.根据权利要求1或2或6或7所述的光学处理系统，其特征在于，该发光单元模块中的该些发光单元为自发光式光源，包括发光二极管、超发光二极管、或激光二极管。

10.根据权利要求1或2或6或7所述的光学处理系统，其特征在于，该图像光束的波长落在200纳米至430纳米的范围内。