[发明专利]基底分离装置

权利要求书

1.一种分离彼此接触的第一基底和第二基底的装置，该装置包括：

上传送部件，所述上传送部件固定所述第一基底并沿由彼此垂直相交的X轴和Y轴组成的XY坐标系中的正X轴方向传送所述第一基底；

下传送部件，所述下传送部件被设置在所述上传送部件下方并且其间具有间隙并固定和传送所述第二基底，和

将所述第二基底与所述第一基底沿XYZ坐标系统中的Z轴方向分离的分离器，XYZ坐标系统由X轴、Y轴和与X轴和Y轴垂直相交的Z轴组成；

其中所述下传送部件包括：

在正X轴方向传送所述第二基底的第一传送部分；和

在正X轴方向和负Y轴方向传送所述第二基底的第二传送部分；并且

其中所述分离器包括刀，所述刀通过在负X轴方向移动而被插入在所述第二基底与所述第一基底之间以通过沿Z轴方向移动而部分分离所述第一基底与所述第二基底。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二传送部分接触在XY坐标系统中具有负斜率的直线。

3.根据权利要求2所述的装置，其中负斜率的绝对值是恒定的。

4.根据权利要求2所述的装置，其中所述第二传送部分包括负斜率的绝对值随着与所述第一传送部分的距离的增大而增大的部分。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二传送部分的顶表面包括倾斜表面，并且所述倾斜表面包括平坦表面或弯曲表面。

6.根据权利要求1所述的装置，其中由所述第一传送部分的顶表面和所述第二传送部分的顶表面形成的角的范围为大于135度至小于180度。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所 述第一传送部分的所述顶表面和所述第二传送部分的所述顶表面面向所述上传送部件。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述分离器进一步包括：

刀支撑件，所述刀支撑件被连接到所述刀以固定所述刀；和

刀驱动单元，所述刀驱动单元移动所述刀支撑件。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述分离器被连接到所述上传送部件。

10.根据权利要求1所述的装置，进一步包括将所述第二基底与所述第一基底沿负X轴方向分离的辅助分离器。

11.根据权利要求10所述的装置，其中所述辅助分离器被设置在所述第二传送部分的侧部上或在所述第一传送部分与所述第二传送部分之间的边界的侧部上。

12.根据权利要求10所述的装置，其中所述辅助分离器包括：

辅助刀，所述辅助刀被插入在所述第二基底与所述第一基底之间以将所述第一基底与所述第二基底沿负X轴方向分离；和

辅助刀支撑件，所述辅助刀支撑件被连接到所述辅助刀以固定所述辅助刀。

13.根据权利要求1所述的装置，其中所述上传送部件包括：

上保持单元；

上固定单元，所述上固定单元被设置在所述上保持单元下方以固定所述第一基底的顶表面；和

上驱动单元，所述上驱动单元移动所述上保持单元。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述上固定单元包括真空吸附所述第一基底的所述顶表面的上真空吸附部分。

15.根据权利要求1所述的装置，其中所述下传送部件进一步包括：

下保持单元，其中所述第二基底被设置在所述下保持单元的顶表面并且所述下保持单元包括所述第一传送部分和所述第二传送部分；

下固定单元，所述下固定单元固定所述第二基底的底表面；和

下驱动单元，所述下驱动单元移动被设置在所述下保持单元上的所述第二基底。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述下固定单元包括真空吸附所述第二基底的所述底表面的下真空吸附部分。

17.根据权利要求15所述的装置，其中所述下保持单元进一步包括传送带。

18.根据权利要求1所述的装置，进一步包括离子发生器，所述离子发生器供应离子以中和所述第二基底或所述第一基底上带的静电。

19.根据权利要求18所述的装置，其中所述离子发生器为通过X射线照射产生离子的光电离器。

20.根据权利要求18所述的装置，其中所述离子发生器被设置在所述第一传送部分与所述第二传送部分之间的边界的侧部上或在所述第二传送部分的侧部上。