[发明专利]电子照相感光构件和各自包括其的电子照相设备与处理盒有效

专利信息
申请号: 201410080860.0 申请日: 2014-03-06
公开(公告)号: CN104035292B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 中田浩一;高木进司;小坂宣夫;铃木幸一 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/14 分类号: G03G5/14;G03G15/00;G03G21/18
代理公司: 北京魏启学律师事务所11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 各自 包括 设备 处理
【说明书】:

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件和各自包括所述电子照相感光构件的电子照相设备与处理盒。

背景技术

为了可以改善包含有机光导电性物质的电子照相感光构件(感光构件)的耐久性,已研究用于改善电子照相感光构件的表面的材料、物理性质等的技术。

然而,电子照相感光构件的耐久性的改善趋于易于导致图像缺失或电位变化。

认为由以下导致图像缺失:由于例如通过电子照相感光构件的充电产生的臭氧或氮氧化物导致电子照相感光构件的表面层中材料的劣化;或由于水分吸附在电子照相感光构件的表面导致表面层的表面电阻降低。特别是在高温高湿环境下图像缺失易于显著地发生。

同样地,由于通过电子照相感光构件的重复使用导致构成材料的劣化,易于发生电位变化。

日本专利申请特开H08-272126和日本专利申请特开2001-242656各自描述通过将特定的添加剂引入至电子照相感光构件,改善电子照相感光构件的透气性和耐臭氧性,并且缓和其图像浓度变化。

日本专利申请特开2007-279446描述将特定的添加剂引入至感光层可改善电特性的稳定性因此抑制如存储(memory)等图像缺陷的发生。

近几年,电子照相设备的耐久性的改善已经进步,因此对于进一步缓和图像缺失和电位变化的要求日益增长。

发明内容

考虑到以上,本发明的目的是提供在图像缺失和电位变化的抑制方面优良的电子照相感光构件。另外,本发明的另一目的是提供各自包括电子照相感光构件的电子照相设备和处理盒。

根据本发明的一方面,可提供一种电子照相感光构件,其包括:支承体;和在支承体上形成的感光层,其中电子照相感光构件的表面层包含空穴输送物质,其中,空穴输送物质为由碳原子和氢原子组成的化合物;和由碳原子、氢原子和氧原子组成的化合物之中的一种,空穴输送物质包含含有24个以上的sp2碳原子的共轭结构,其中,共轭结构包含含有12个以上的sp2碳原子的稠合多环结构,空穴输送物质中sp2碳原子数基于碳原子的总数的比例为55%以上,并且空穴输送物质中sp3碳原子数基于碳原子的总数的比例为10%以上。

根据本发明的另一方面。可提供可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒,其中处理盒一体化地支承:上述电子照相感光构件;和选自由充电装置、显影装置和清洁装置组成的组的至少一种装置。

根据本发明的进一步方面,可提供包括上述电子照相感光构件;充电装置;曝光装置;显影装置;和转印装置的电子照相设备。

根据本发明,可提供在图像缺失和电位变化的抑制方面优良的电子照相感光构件。另外,根据本发明,提供各自包括上述电子照相感光构件的电子照相设备和处理盒。

参考附图从以下示例性实施方案的描述中,本发明的进一步特征将变得显而易见。

附图说明

图1为示出电子照相感光构件的层结构的一个实例的图。

图2为示出电子照相感光构件的层结构的实例的图。

图3为示出电子照相感光构件的层结构的实例的图。

图4为示出包括具有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构的实例的图。

图5为示出包括根据本发明的电子照相感光构件的处理盒的示意性结构的实例的图。

具体实施方式

本发明的电子照相感光构件的表面层包含空穴输送物质,并且空穴输送物质为由碳原子和氢原子组成的,或由碳原子、氢原子和氧原子组成的化合物。另外,空穴输送物质包含含有24个以上的sp2碳原子的共轭结构并且共轭结构包含含有12个以上的sp2碳原子的稠合多环结构。除了这些特性外,本发明的电子照相感光构件的特征在于空穴输送物质中sp2碳原子数与碳原子的总数的比例为55%以上,并且空穴输送物质中sp3碳原数与碳原子总数的比例为10%以上。

本发明的发明人认为图像缺失的原因之一为以前用作空穴输送物质的芳族胺化合物在空穴注入性能和空穴输送性能方面是优良的,但是趋于易受如氧化等劣化影响。认为电子照相感光构件的表面易受如特别是由于在电子照相感光构件表面充电的过程中产生的臭氧或氮氧化物引起的氧化等劣化的影响。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410080860.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top