[发明专利]曝光装置及曝光系统

说明书

技术领域

本发明涉及曝光技术，特别是涉及一种曝光装置及曝光系统。

背景技术

随着平板显示技术的发展，液晶显示器已经广泛应用于电脑、电视、手机、照相机等设备上，也越来越追求大尺寸、高分辨率、高品质的目标。显示产品的大尺寸推动高世代线发展，基板制作过程中曝光机的掩膜版的尺寸也相应增大，掩膜版的弯曲也越来越明显，使得使用掩膜版进行光刻工艺之后形成的彩色滤光片上图形尺寸不均一问题越来越严重，影响产品品质。目前使用的曝光机为接近式曝光机。

目前接近式曝光机的结构包括光源、检出系(Alignment)、Mask Holder(掩膜版夹具)&Mask(掩膜版)、L-Stage(左基台)、L-Robot(左机械手)、R-Stage(右基台)、R-Robot(右机械手)和玻璃基板等。图1为目前彩色滤光片制作过程中接近式曝光示意图，包括基台1、支撑引脚2、玻璃基板3、光阻4和掩膜版5，掩膜版5和玻璃基板3的间距在数百微米以内，支撑引脚2的高度全部一致。在曝光过程中，曝光机中大尺寸掩膜版会发生一定程度的弯曲，造成掩膜版5和玻璃基板3之间不同位置的间距不同，玻璃基板3中间部分曝光间距小于边缘部分(G2<G1)，由于接近式曝光中，光阻材料曝光后图形尺寸(CD)随曝光间距的不同而不同，故制作后基板图形尺寸存在差异，中间部分图形尺寸小于边缘部分(CD2<CD1)，影响显示产品品质。

因此，需要通过曝光设备的改进以解决掩膜版弯曲带来的显示产品品质问题。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是在接近式曝光中，如何消除因掩膜版弯曲所带来的曝光后不同区域图形尺寸不一致，以致影响显示产品品质的缺陷。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供一种曝光装置，包括：

基台，其上设置有支撑部，所述支撑部上支撑放置待曝光基板；

支架，其上用于安装掩膜版；

光源系统，提供曝光光线，曝光光线经由掩膜版照射到待曝光基板上，将所述掩膜版的图案光刻到所述基板上；

其中，所述支撑部的高度由待曝光基板放置区域的外围朝向该区域的中心逐渐减小，使得所述基板待曝光区域各个位置的曝光间距相同。

优选地，所述支撑部包括固定部和设置在所述固定部上方的可调部，所述固定部的顶部所在平面为水平面，所述可调部的顶部各个位置与掩膜版之间的距离相等。

优选地，所述支撑部的高度H_N满足：

H_N=H_O+Δh，Δh=H[1-(l/L)ⁿ]

其中，H_O为固定部的高度，Δh为可调部的高度，也即掩膜版弯曲引起的曝光间距变化量，l为掩膜版上的点距掩膜版中心点的距离，L为该点与该中心点连线上该中心点距掩膜版边缘的距离，H为掩膜版弯曲引起的最大曝光间距变化量，n为形变指数。

优选地，所述支撑部为间隔设置在所述基台上的支撑引脚。

优选地，所述支撑部包括多排支撑引脚，多排支撑引脚之间等间距设置。

优选地，所述支撑部为上表面为连续表面的支撑台。

优选地，所述支撑部包括至少一个待曝光基板放置区域。

进一步地，本发明还提供了一种曝光系统，包括掩膜版和曝光装置，其中，所述曝光装置采用上述任一项所述的曝光装置。

（三）有益效果

上述技术方案具有如下优点：通过调整大尺寸接近式曝光装置基台上支撑部的高度，实现接近式曝光过程中，待曝光基板的弯曲度与掩膜版的弯曲度一致，从而使得待曝光基板上不同位置的曝光间距相同，能够避免普通基台曝光时因掩膜版弯曲导致曝光间距不均一造成图形尺寸不均一的问题，而且能够降低待曝光基板中间部分异物划伤掩膜版的风险。

附图说明

图1是现有技术中接近式曝光示意图；

图2是接近式曝光时图形尺寸与曝光间距关系曲线；

图3是本发明实施例1中接近式曝光示意图；

图4是本发明实施例2中接近式曝光示意图

附图元件说明：

1：基台；2：支撑引脚；20：支撑台；3：基板；4：光阻；5：掩膜版。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。