[发明专利]宽温耐高压高储能密度陶瓷介质材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410083067.6 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN103864435A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 曹明贺;张益鸣;刘韩星;尧中华;郝华;余志勇 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C04B35/622 分类号: C04B35/622;C04B35/628
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 宽温耐 高压 高储能 密度 陶瓷 介质 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种储能介质材料的制备方法,尤其是一种宽温耐高压高储能密度的BaTiO3基陶瓷介质材料的制备方法,属于电介质储能材料领域,该材料可用于储能电容器材料,尤其是在脉冲功率技术方面的应用。

背景技术

高储能密度,高耐压陶瓷电容器被广泛应用在激光、雷达、移动通讯及电动汽车等领域中。各国材料工作者正在积极探索制备具有高介电常数、低介电损耗和高耐压强度的介质材料,以满足脉冲功率系统的小型化和高的能量存储密度。钛酸钡作为一种铁电材料具有较高的介电常数,低的介电损耗,是制备储能介质材料的最佳选择。一般钛酸钡陶瓷往往只有5-8Kv/mm,储能密度不大;同时随温度变化产生不同的相变,导致介电常数不稳定不能满足高温和低温等特殊温度下的使用,因此需要对钛酸钡进行改性处理。

显微结构对材料性能的影响至关重要,对材料结构的设计是我们调控材料性能的重要手段。

发明内容

本发明的目的在于提供一种宽温耐高压高储能密度陶瓷介质材料的制备方法,该方法制备的储能陶瓷具有较好的温度稳定性,耐高压同时储能密度高,很大程度上改善了钛酸钡陶瓷基体的储能及介电性能。

为了实现上述目的,本发明的技术方案是:宽温耐高压高储能密度陶瓷介质材料的制备方法,其特征在于包括有以下步骤:

1)将陶瓷粉体置于乙醇和冰醋酸混合物溶液中,水浴搅拌,再超声分散得到悬浊液;

2)向步骤1)所得悬浊液中加入金属醇盐正硅酸四乙酯,搅拌使金属醇盐均匀的分布在乙醇中及陶瓷粉体表面;

3)继续搅拌同时滴加氨水,通过氨水的加入使金属醇盐水解,控制pH8-10得到粘稠浆液;

4)搅拌浆液10-14h后,用去离子水或无水乙醇多次洗涤,得到浆料,将浆料再次置入烧杯中,加入去离子水或无水乙醇,在搅拌器的作用下,得到混合均匀的悬浊液,离心分离,得到包覆上氧化物的粒子粉体;

5)在600-800℃下,对步骤4)所得粉体预烧30-180min,再进行造粒、过筛、沉化、压制成陶瓷生坯,将陶瓷生坯于600℃*2h排胶处理后,在1100-1400℃下烧结,保温2-4h后即得耐高压高储能密度的储能介质材料。

按上述方案,步骤1)所述的陶瓷粉体是钛酸钡、钛酸锶钡、钨酸铅、钛酸铜钙和钛酸铅中的任意一种。

按上述方案,步骤1)所述的乙醇和冰醋酸混合物溶液pH值为3-6。

按上述方案,步骤1)所述的水浴搅拌温度为40-80℃,水浴搅拌时间40-90分钟,超声分散时间40-90分钟。

按上述方案,步骤3)所述的滴加速度为1-10s/d。

本发明的反应机理说明:金属醇盐具有遇水分解为金属氧化物和醇的特性,一般氧化物具有团聚的特性,在此为了达到包覆的目的可以通过控制pH来活化陶瓷粉体,使金属氧化物吸附在陶瓷粉体表面,从而得到包覆均匀的具有“核壳”结构物质。例如使用TEOS分解为SiO2包覆BaTiO3

5Si(OC2H5)4+10H2O→5SiO2+20C2H5OH

对于纳米级钛酸钡粉体,不同的TEOS加入量对钛酸钡陶瓷基体的介电常数、耐电压强度、储能密度影响巨大,其中SiO2含量2%左右,介电常数2300左右,耐压201kv/cm,储能密度最大,温度稳定性可达到X8R的标准要求,介质损耗小于2%;含量4%左右介电常数在1700左右,温度稳定性可以达到X8R的要求,介质损耗小于2%,储能密度相对较大,耐压强度可达到234kv/cm。

本发明通过设计半导化的“核”及绝缘化的“壳”,来提高材料的耐电压性能和介电性能。其中的绝缘态“壳”为玻璃相,在烧结过程中易产生流动的液相,进而减少陶瓷内部的孔隙率,促使陶瓷致密。同时绝缘的玻璃相介电常数较低,通过包覆层施加的压力,缓和了钛酸钡陶瓷在随温度变化时的相变导致的介电常数的差值,有利于介电常数的温度温度性

本发明与现有制备储能介质材料的方法相比,具有成本低、不需要对包覆物进行特殊的热处理的优点,其制备工艺简洁、重复性好、可以放大生产,有利于制备大尺寸储能介质材料;同时可以保持基体原有的晶粒尺寸大小,对制备纳米储能介质陶瓷很有帮助。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410083067.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top