[发明专利]一种多功能层低辐射节能玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种多功能层低辐射节能玻璃，其特征在于，包括玻璃基片、阻挡层、钛功能层、银钛功能层、保护层，在玻璃基片上由内向外方向依次为阻挡层、钛功能层、银钛功能层、保护层，阻挡层用于阻止玻璃基片中的钠离子、钙离子等进入功能层影响节能效果，保护层用于提高薄膜的耐腐蚀、耐磨机械性能，用于对整个膜系的保护。

2.根据权利要求1所述的一种多功能层低辐射节能玻璃，其特征在于，所述钛功能层包括第一氧化钛膜层（31）、第一金属钛膜层（32）、第二氧化钛膜层（33），所述钛功能层膜层顺序由内向外方向依次为第一氧化钛膜层（31）、第一金属钛膜层(32)、第二氧化钛膜层（33），所述钛功能层中第一氧化钛膜层（31）的膜层厚度为20～35nm，第一金属钛膜层（32）的膜层厚度为6～15nm，第二氧化钛膜层（33）的膜层厚度为20～35nm。

3.根据权利要求1所述的一种多功能层低辐射节能玻璃，其特征在于，所述银钛功能层包括金属银膜层（41）、第二金属钛膜层（42）、第三氧化钛膜层（43）、氧化锌膜层（44），所述银钛功能层膜层顺序由内向外依次为金属银膜层（41）、第二金属钛膜层（42）、第三氧化钛膜层（43）、氧化锌膜层（44），所述银钛功能层中金属银膜层（41）的膜层厚度为8～12nm，第二金属钛膜层（42）的膜层厚度为5～15nm，第三氧化钛膜层（43）的膜层厚度为20～35nm，氧化锌膜层（44）的膜层厚度为20～40nm。

4.根据权利要求1所述的一种多功能层低辐射节能玻璃，其特征在于，所述阻挡层的材料为氧化硅或者氮化硅，所述阻挡层膜层厚度为20～35nm。

5.根据权利要求1所述的一种多功能层低辐射节能玻璃，其特征在于，所述保护层的材料为氧化硅或者氮化硅，所述保护层膜层厚度为25～45nm。

6.权利要求1所述的一种多功能层低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于，在温度在16～26℃ 、湿度50%以下、溅射气压维持在0.1Pa～0.5Pa范围、洁净度达到十万量级的镀膜环境下，利用磁控溅射设备，在玻璃基片上依次溅射形成阻挡层、钛功能层、银钛功能层、保护层，其中阻挡层用于阻止玻璃基片中的钠离子、钙离子等进入功能层影响节能效果，所述阻挡层的材料为氧化硅或者氮化硅；保护层用于提高薄膜的耐腐蚀、耐磨机械性能，用于对整个膜系的保护，所述保护层的材料为氧化硅或者氮化硅。

7.根据权利要求6所述的一种多功能层低辐射节能玻璃制备方法，其特征在于，所述钛功能层包括第一氧化钛膜层（31）、第一金属钛膜层（32）、第二氧化钛膜层（33），所述钛功能层膜层溅射顺序依次为第一氧化钛膜层（31）、第一金属钛膜层(32)、第二氧化钛膜层（33），所述钛功能层中第一氧化钛膜层（31）的膜层厚度为20～35nm，第一金属钛膜层（32）的膜层厚度为6～15nm，第二氧化钛膜层（33）的膜层厚度为20～35nm。

8.根据权利要求6所述的一种多功能层低辐射节能玻璃制备方法，其特征在于，所述银钛功能层包括金属银膜层（41）、第二金属钛膜层（42）、第三氧化钛膜层（43）、氧化锌膜层（44），所述银钛功能层膜层溅射顺序依次为金属银膜层（41）、第二金属钛膜层（42）、第三氧化钛膜层（43）、氧化锌膜层（44），所述银钛功能层中金属银膜层（41）的膜层厚度为8～12nm，第二金属钛膜层（42）的膜层厚度为5～15nm，第三氧化钛膜层（43）的膜层厚度为20～35nm，氧化锌膜层（44）的膜层厚度为20～40nm。

9.根据权利要求6所述的一种多功能层低辐射节能玻璃制备方法，其特征在于，所述阻挡层膜层厚度为20～35nm。

10.根据权利要求6所述的一种多功能层低辐射节能玻璃制备方法，其特征在于，所述保护层膜层厚度为25～45nm。