[发明专利]网板曝光机监控系统有效
申请号: | 201410088620.5 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN104914676B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 詹文清;罗志雄 | 申请(专利权)人: | 旺昌机械工业(昆山)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 215334 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 监控 系统 | ||
1.一种网板曝光机监控系统,应用于具有曝光装置的网板曝光机,用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态,其特征在于,所述系统包括:
曝光监控模块,具有:
曝光参数设定单元,用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程;
曝光侦测器,设于所述网板曝光机的曝光装置中,且所述曝光装置还具有光学元件,所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率,并输出所侦测的即时光功率值;及
曝光分析单元,用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学元件的即时光功率值,并于分析所述输出的即时光功率值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时,输出异常信号;
其中,所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定,且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片,所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能,于曝光作业中,使光学元件提供预定波长,待一预定时间后,控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长,而达到以单一波长进行多重波长的曝光;以及
异常处理模块,于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时,依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。
2.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,藉由所述曝光参数设定单元所设定的异常处理操作流程至少包括:输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组之其中一者。
3.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,还包括:记录模块,用以记录所述网板曝光机对网板进行曝光的曝光处理信息。
4.根据权利要求3所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述记录模块还于所述曝光分析单元输出异常信号时,记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据,所述曝光作业数据包括:输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率值所组群组之其中一者。
5.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述曝光参数设定单元还提供客制化标准作业程序测光功能的设定,用以供用户设定其所欲输入的光能量值,以在曝光作业时,所述曝光分析单元依据用户所设定的光能量值,以线性处理方式来控制累积光能量。
6.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,其还设有数据传输接口,藉由所述数据传输接口供用户近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。
7.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述光学元件的出光路径上设置一凸透镜,以使穿过的光线均匀发散。
8.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,还包括:真空监控模块,所述真空监控模块具有:
真空参数设定单元,用于提供设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程;
压力传感器,用于感测所述曝光室内的真空压力,并输出所感测的真空压力值;以及
真空分析单元,用于接收所述压力传感器所输出的真空压力值,并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元所设定的真空参数值不吻合时,输出异常信号。
9.根据权利要求8所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述异常处理模块还包括:于接收到所述真空分析单元所输出的异常信号时,依据所述真空参数设定单元所设定的异常处理操作流程执行相应的操作。
10.根据权利要求9所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述压力传感器为多个,且分别设于所述网板曝光机的曝光室及真空源中,分别用以感测所述网板曝光机内的真空帮浦真空度、设于所述网板曝光机的曝光室中的网板、底片真空数值以及橡胶压条气密性以及设于网板曝光机内的抽真空组件的状态。
11.根据权利要求8所述的网板曝光机监控系统,其特征在于,所述异常处理模块判定在一预定时间真空压力无法到达所设定的真空参数值时,停止曝光作业及发出警报状态消息。
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