[发明专利]RH真空精炼装置所用的浸渍管有效
申请号: | 201410091028.0 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN103834766A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 邹宗树;许涛 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | C21C7/10 | 分类号: | C21C7/10 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王兆赓;李云霞 |
地址: | 110004 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | rh 真空 精炼 装置 所用 浸渍 | ||
1.一种RH真空精炼装置所用的浸渍管,包括上升管、下降管,真空精炼时,浸渍管插入钢包的钢水中,其特征是,所述浸渍管为直筒形一体式结构,由中间隔墙将浸渍管分隔为弧形的上升管和弧形的下降管,其中,上升管由浸渍管的部分弧形内壁与中间隔墙的一侧壁面组成,下降管由浸渍管的另一部分弧形内壁与中间隔墙的另一侧壁面组成,上升管的下部设有提升气吹入导管,在提升气吹入导管上设有提升气出口,由上升管、下降管构成的浸渍管通过其上焊接的法兰而固定在真空室下端,真空室底面开有与上升管和下降管的形状相同的两个弧形的内孔,内孔的弧形壁由真空室的外壁组成,内孔的直壁与上升管和下降管的直壁在垂直方向上重叠,以此形成与上升管、下降管相通的空间。
2.根据权利要求1所述的RH真空精炼装置所用的浸渍管,其特征是,浸渍管的外径D1的长度为0.75~0.98倍的钢包上口内径D0,浸渍管的壁厚L1为150mm~750mm。
3.根据权利要求1所述的RH真空精炼装置所用的浸渍管,其特征是,浸渍管的上升管与下降管中间的中间隔墙的厚度L2为1.0~1.5L1,中间隔墙的中心线距离浸渍管中心线的偏移量L4取值范围为:0~0.3D1。
4.根据权利要求1所述的RH真空精炼装置所用的浸渍管,其特征是,浸渍管的浸入深度L3为100mm~800mm。
5.根据权利要求1所述的RH真空精炼装置所用的浸渍管,其特征是,提升气吹入导管的提升气出口设置在上升管的下部,且提升气出口沿上升管的轴向由低向高地设置为1~3层,每层间距为150mm~300mm,且每一层至少设有1个出气口。
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