[发明专利]一种基于HR-LLE权值约束的人脸图像超分辨率复原方法有效

专利信息
申请号: 201410099532.5 申请日: 2014-03-17
公开(公告)号: CN103971332A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 李晓光;魏振利;卓力 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 hr lle 约束 图像 分辨率 复原 方法
【权利要求书】:

1.一种基于HR-LLE权值约束的人脸图像超分辨率复原方法,其特征在于包括如下步骤:

(一)全局HR-LLE权值约束重建

(1)全局平均重建权值约束

首先,需要建立两个人脸图像样本库,即成对的HR人脸图像样本库和相应的LR人脸图像样本库;

利用基于LLE的权值求解方法计算出每个LR人脸样本相对于其K1最近邻样本的重建权值,如公式(1)所示;

其中为其中一个LR人脸样本图像,是其K1个最近邻样本且是其相对于K1个最近邻样本的重建权值;K1=800;

利用基于LLE的权值求解方法计算出相应的HR人脸样本的重建权值,如公式(2)所示;

其中是与相对应的HR人脸样本图像,是与对应的K1个最近邻HR样本,是其相对于K1个最近邻HR样本的重建权值;

解最优化问题(1)和(2)得出LR样本和相应HR样本的重建权值,Wg=0.85;

(2)全局重建

输入一幅LR人脸图像x,大小为35×40个像素;利用欧氏距离从LR人脸样本库中找出x的K1个最近邻人脸样本利用公式(3)得出x相对于的重建权值WG=[wG1,wG2,wG3,...,wGK1];]]>再利用公式(4)重建全局初步放大人脸图像yG

minϵ=||x-Σj=1K1wGjlGj||2+α|||WG||2-Wg|Σj=1K1wGj=1;wGj=0,if(lGj[lG1,lG2,lG3lG4......lGK1])---(3)]]>

yG=Σj=1K1wGjhGj---(4)]]>

其中是在HR人脸样本库中相对应的HR人脸样本;在(3)中,利用全局平均重建权值l2范数约束Wg对重建权值WG进行约束,这样解最优化问题(3)后得出的重建权值就相对接近目标HR人脸图像的真实权值;ɑ=0.01;

(二)局部HR-LLE权值约束细节补偿

(1)局部平均重建权值约束

首先建立HR残差人脸样本和相应的LR残差人脸样本库;由样本中的LR图像利用全局HR-LLE权值约束算法生成一组初始放大HR图像样本,计算样本库中HR图像与这些初始放大HR样本之间的残差,得到一组HR残差样本库,然后对初始放大的HR人脸样本图像进行下采样,计算下采样后的子图像与LR人脸样本图像之间的残差,得到LR残差人脸样本图像;

由于局部细节补偿时是分块进行的,所以在求取局部平均重建权值约束的时候也采用分块的方法;将HR残差人脸图像分成8×8的像素块,相应的LR残差人脸图像分成2×2的像素块;与全局平均重建权值约束的求解方法相似,Wl=0.8;

(2)局部细节补偿生成最终放大人脸

将全局初始放大人脸yG进行4倍下采样,然后将下采样人脸与输入LR人脸x做差,得到输入LR残差人脸diffLR;对LR残差人脸diffLR进行分块处理,块大小为2×2个像素;从LR残差人脸样本库中依次找到每个残差图像块的K2个最近邻残差块K2=600;利用公式(5)得出LR残差图像块相对于的重建权值WL=[wL1,wL2,wL3,...,wLK2];]]>再利用公式(6)重建HR残差图像块

minϵ=||LRLi-Σj=1K2wLjlLj||2+α|||WL||2-Wl|Σj=1K2wLj=1;wLj=0,if(lLj[lL1,lL2,lL3......lLK2])---(5)]]>

HRLi=Σj=1K2wLjhLj---(6)]]>

其中是在HR残差人脸样本图像块库中相对应的HR残差人脸图像块;在(5)中,利用局部平均重建权值约束Wl对重建权值WL进行约束,这样解最优化问题(5)后得出的重建权值就相对接近于目标HR残差人脸图像块的真实重建权值;

依次重建HR残差图像块,最终重建出整幅HR残差图像diffHR;将HR残差人脸图像diffHR和初始放大人脸图像yG相加,得到最终输出放大人脸图像y。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410099532.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top